[发明专利]一种接近式光刻机有效
| 申请号： | 201210434929.6 | 申请日： | 2012-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN103792794A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李会丽;张俊;闻人青青;李志丹 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 接近 光刻 | ||
1.一种接近式光刻机，其特征在于，包括：
光学系统，支架监测装置、载台和掩膜台；其中，
所述支架监测装置安装在非生产状态下的所述载台的原位区的上方，用于对掩膜台和/或载台进行检查；
所述掩膜台在所述载台上方。
2.根据权利要求1所述的接近式光刻机，其特征在于，所述接近式光刻机与在线检查机联机。
3.根据权利要求1所述的接近式光刻机，其特征在于，所述支架监测装置具有升降和/或在90度范围内旋转的能力。
4.根据权利要求1所述的接近式光刻机，其特征在于，所述支架监测装置上设有升降杆，所述升降杆用于升降所述支架监测装置。
5.根据权利要求4所述的接近式光刻机，其特征在于，所述支架监测装置包括：
扫描拍照装置，用于扫描缺陷可疑位置并进行拍照比对；
三维支架导杆装置，包括X、Y、Z三个方向的支架导杆，用于携带所述扫描拍照装置；及
夹子，用于夹持掩膜。
6.根据权利要求5所述的接近式光刻机，其特征在于，所述扫描拍照装置按所述Z方向在180度范围内旋转。
7.根据权利要求5所述的接近式光刻机，其特征在于，所述扫描拍照装置的光源为LED光源。
8.根据权利要求5所述的接近式光刻机，其特征在于，所述夹子包含真空吸附孔和有机材质。
9.根据权利要求5所述的接近式光刻机，其特征在于，所述扫描拍照装置和三维支架导杆装置包含双面结构。
10.根据权利要求1所述的接近式光刻机，其特征在于，所述接近式光刻机的光源为汞灯源。
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