[发明专利]一种抑制微波部件微放电效应的微刻蚀工艺方法有效
申请号: | 201210431364.6 | 申请日: | 2012-10-31 |
公开(公告)号: | CN102925893A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 崔万照;杨晶;胡天存;王瑞;贺永宁 | 申请(专利权)人: | 西安空间无线电技术研究所 |
主分类号: | C23F1/00 | 分类号: | C23F1/00 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 安丽 |
地址: | 710100 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抑制 微波 部件 放电 效应 刻蚀 工艺 方法 | ||
1.一种抑制微波部件微放电效应的微刻蚀工艺方法,其特征在于步骤如下:
(1)对微波部件的表面进行去油和清洗处理;
(2)对步骤(1)中预处理过的微波部件利用Fe(NO3)3刻蚀液进行微刻蚀反应,在微波部件表面形成微陷阱结构;
(3)清洗该微波部件,去除微波部件表面的反应残留物;
(4)去除微波部件表面残留的Fe3+;
(5)再次清洗该微波部件;
(6)烘干该微波部件并包装保存。
2.根据权利要求1所述的一种抑制微波部件微放电效应的微刻蚀工艺方法,其特征在于:步骤(1)中所述对微波部件的表面进行去油和清洗处理具体为:先分别依次用丙酮、乙醇超声清洗5min去油,再用超纯水超声清洗5min,最后在50℃下烘干。
3.根据权利要求1所述的一种抑制微波部件微放电效应的微刻蚀工艺方法,其特征在于:Fe(NO3)3刻蚀液采用Fe(NO3)3·9H2O配制,其质量比为Fe(NO3)3·9H2O∶超纯水H2O=1∶2。
4.根据权利要求1或3所述的一种抑制微波部件微放电效应的微刻蚀工艺方法,其特征在于:对微波部件利用Fe(NO3)3刻蚀液进行微刻蚀反应时,微刻蚀反应温度为50℃±1℃,反应时间为40s±2s。
5.根据权利要求1所述的一种抑制微波部件微放电效应的微刻蚀工艺方法,其特征在于:步骤(3)中清洗该微波部件具体为:先进行二级水洗,再用超纯水超声清洗2次,每次2min。
6.根据权利要求1所述的一种抑制微波部件微放电效应的微刻蚀工艺方法,所述去除微波部件表面残留的Fe3+具体为:将微波部件在50%的盐酸中浸泡20s。
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