[发明专利]一种基于能动光学技术的能动变形镜的光刻照明装置及照明方法

权利要求书

1.一种基于能动光学技术的能动变形镜的光刻照明装置，其特征在于：该装置按光束传播的方向依次包括：激光器（1），扩束器（2），能动变形单元（3），变焦透镜组（4），旋转三棱镜组（5），匀光器（6），聚光镜（7）和掩模（8），所述的能动变形单元（3）包括基于能动光学技术的能动变形镜（301）和控制计算机（302），通过控制计算机（302）控制该能动变形镜产生各种特定的变形，所述激光器（1）发出照射光束，经过所述的能动变形镜（301），变焦透镜组（4），旋转三棱镜组（5）来调整光瞳形貌，然后再经匀光器（6），聚光镜（7）进行匀光，照射到掩模（8）上。

2.根据权利要求1所述的光刻照明装置，其特征在于：所述的基于能动光学技术的能动变形镜是基于微光刻和半导体批处理技术构造的MEMS变形镜，或是基于制动单元作用下薄膜表面局部形变的薄膜变形镜，或是其他类型的能动变形镜。

3.根据权利要求2所述的光刻照明装置，其特征在于：所述的薄膜变形镜为压电薄膜变形镜，静电驱动变形镜或Bimorph变形镜。

4.根据权利要求3所示的光刻照明装置，其特征在于：所述的Bimorph变形镜包含表面薄膜反射层，被动变形层，控制电极，PZT层，寻址电极，控制电极和寻址电极根据特定的变形要求被设计成不同的形状及分布方式，控制计算机通过和寻址电极，控制电极的实时通信实现变形镜产生各种特定的变形的要求。

5.根据权利要求2所述的光刻照明装置，其特征在于：为了产生所需要的光瞳形状，所使用的能动变形镜可以是一个，也可以是多个组合。

6.一种基于能动光学技术的能动变形镜的光刻照明方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤（1）、根据掩膜图案计算出最优化的照明光瞳形状。

步骤（2）、根据优化算法优化变形单元的相位调制信息；

步骤（3）、将优化后的相位调制信息加载在能动变形镜的控制单元上；

步骤（4）、控制单元将相位调制信息中相位灰度信息转化为对应的电压，并寻址加到对应的能动变形镜的变形单元上；

步骤（5）、能动变形镜产生所需要的光瞳形状

步骤（6）、从能动变形镜出发的光线经过变焦透镜组，旋转三棱镜组产生掩模图案所需的光瞳分布；

步骤（7）、从旋转三棱镜组出发的光线经过匀光器进行匀光最后照射到掩膜上。

7.根据权利要求6所述的一种基于能动光学技术的能动变形镜的光刻照明方法，其特征在于，所述的优化算法为模拟退火算法或遗传算法或G-S算法。