[发明专利]足浴盆的按摩结构

权利要求书

1.一种足浴盆的按摩结构，包括盆体（1），其特征在于：在所述盆体（1）的底部向外延伸形成一体式的圆形凹槽（2），圆形凹槽（2）的开口端上罩设有弹性膜层（12），圆形凹槽（2）内设有可沿圆形凹槽（2）内壁上下滑动的磁性活塞（3），在与磁性活塞（3）对应的圆形凹槽（2）外套设有线圈（4），线圈（4）与外接电源相连。

2.根据权利要求1所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在所述弹性膜层（12）的中部一体式连接有弹性按摩头（8），弹性按摩头（8）的一端延伸在弹性膜层（12）的表面上方，弹性按摩头（8）的另一端延伸至圆形凹槽（2）内。

3.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在与圆形凹槽（2）开口端对应的弹性膜层（12）上设有环形端盖（6），弹性膜层（12）夹持在环形端盖（6）与盆体（1）底面间。

4.根据权利要求3所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在所述圆形凹槽（2）的开口端设有沉孔（7），环形端盖（6）嵌装在沉孔（7）内且环形端盖（6）的上端面与盆体（1）底面相平齐。

5.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：所述线圈（4）设于壳体内，壳体包括一端开口的环形容纳腔（51）及罩设在环形容纳腔（51）开口端的定位板（52），在定位板（52）的周边设有定位孔，线圈（4）同轴设于环形容纳腔（51）内，壳体通过螺钉（53）固定在盆体（1）上。

6.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在所述圆形凹槽（2）的底面中部同轴一体式连接有定位柱（11），磁性活塞（3）同轴滑动连接在定位柱（11）上。

7.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：所述磁性活塞（3）呈圆柱形，且磁性活塞（3）的磁极方向与圆形凹槽（2）的轴线方向一致。