[发明专利]用于调色剂的聚酯树脂、调色剂、显影剂、调色剂盒、处理盒和成像装置在审
申请号: | 201210364023.1 | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN103019059A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 长南紫织;山崎纯明;平冈智;佐佐木有希;吉野进;松冈弘高 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G9/087 | 分类号: | G03G9/087;G03G9/08;G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁业平;常海涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 调色 聚酯树脂 显影剂 处理 成像 装置 | ||
技术领域
本发明涉及用于调色剂的聚酯树脂、调色剂、显影剂、调色剂盒、处理盒和成像装置。
背景技术
与电子照相法类似,一种通过形成静电潜像并且使其显影从而使图像信息可视化的方法目前被用于多个领域。根据这种方法,通过以下方式形成图像:使感光体(或潜像保持部件)的整个表面充电;使感光体的表面根据图像信息暴露于激光下,以形成静电潜像;利用包含调色剂的显影剂使静电潜像显影,以形成调色剂图像;并且随后将调色剂图像转印并定影至记录介质表面。
例如,在日本专利No.4505738中公开了一种树脂组合物,该组合物适合生产用于热辊定影系统的电子照相用调色剂。该树脂组合物含有由松香(R)和含环氧基化合物(E)反应的反应产物(P)、以及粘结剂树脂(Q)。含有该树脂组合物的电子照相用调色剂能基本上防止热偏印(hot offset)的发生,并且具有优异的低温定影性。
例如,在JP-A-2007-137910中公开了一种用于调色剂的聚酯,该聚酯是通过将醇成分与含有精制松香的羧酸成分缩聚而制备的。包含该聚酯的调色剂具有优异的低温定影性和储存性,并且较少地产生恶臭味。
本发明的目的在于提供一种用于制备调色剂的聚酯树脂,所述调色剂具有优异的静电性能。
发明内容
(1)一种用于调色剂的聚酯树脂,包括:来源于二羧酸成分的 重复单元;和来源于由式1表示的二醇成分的重复单元,
式1
其中R1和R2各自独立地表示氢原子或甲基,L1、L2和L3各自独立地表示二价连接基团,该连接基团选自由羰基、酯基、醚基、磺酰基、取代或未取代的直链亚烷基、取代或未取代的亚环烷基、取代或未取代的亚芳基、以及它们的组合所组成的组,L1和L2或者L1和L3任选地形成环,并且A1和A2各自独立地代表松香酯基,其中溶解度参数(SP)值为9.1至9.7。
(2)根据第(1)项所述的聚酯树脂,其中其重均分子量(Mw)和数均分子量(Mn)的比值(Mw/Mn)为10至13。
(3)一种含有根据第(1)项所述的聚酯树脂和防粘剂的调色剂。
(4)一种含有根据第(3)项所述调色剂的显影剂。
(5)一种容纳有第(3)项所述的调色剂的调色剂盒,该调色剂盒可拆卸地连接于成像装置上。
(6)一种容纳有根据第(4)项所述的显影剂的处理盒,包括:利用显影剂对在潜像保持部件上形成的静电潜像进行显影以形成调色剂图像的单元,该处理盒可拆卸地连接于成像装置上。
(7)一种成像装置,包括:潜像保持部件;充电单元,该充电单元被布置成能为潜像保持部件的表面充电;形成单元,该形成单元被布置成能在潜像保持部件的表面上形成静电潜像;显影单元,该显影单元被布置成容纳根据第(4)项所述的显影剂并利用该显影剂对形成于所述潜像保持部件的表面上的所述静电潜像进行显影,以形成调色剂图像;转印单元,该转印单元被布置成能将调色剂图像转印到记录介质上;和定影单元,该定影单元被布置成能将调色剂图像定影在记录介质上。
(8)一种成像方法,包括:对潜像保持部件的表面进行充电;在潜像保持部件的表面上形成静电潜像;用第(4)项所述的显影剂对形成在所述潜像保持部件的表面上的所述静电潜像进行显影以形 成调色剂图像;将调色剂图像转印到记录介质上;以及将调色剂图像定影在记录介质上。
与SP值不在上述范围内的情形相比,根据本发明(1)所提供的聚酯树脂能够用于制备一种具有优异定影性能的调色剂。
与Mw/Mn值不在上述范围内的情形相比,根据本发明(2)所提供的聚酯树脂能够用于制备一种具有优异定影性能的调色剂。
与不具有上述构成的情形相比,根据本发明(3)所提供的调色剂具有优异的定影性能。
与不具有上述构成的情形相比,根据本发明(4)所提供的调色剂具有优异的定影性能。
与不具有上述构成的情形相比,根据本发明(5)所提供的调色剂盒容纳有具有优异的定影性能的调色剂。
与不具有上述构成的情形相比,根据本发明(6)所提供的处理盒能够容易地对所述具有优异静电性能的显影剂进行处理,因此与具有各种各样构造的成像装置的适应性得以改善。
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