[发明专利]玻璃基板刻划方法有效
| 申请号： | 201210357123.1 | 申请日： | 2012-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN103030265A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 富永圭介;森亮 | 申请（专利权）人： | 三星钻石工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B33/02 | 分类号： | C03B33/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;龚晓娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 刻划 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种玻璃基板刻划方法，使刻划轮沿着表面具有强化层的玻璃基板上的刻划预定线移动而刻划玻璃基板，所述玻璃基板刻划方法包含以下工序：
第1工序，将所述刻划轮压接在玻璃基板上的离开所述刻划预定线的开始位置处；
第2工序，使所述刻划轮与所述玻璃基板压接的同时从所述开始位置朝着所述刻划预定线移动；以及
第3工序，在所述刻划轮到达所述刻划预定线的时间点，使所述刻划轮的相对于所述玻璃基板的移动方向变更为沿着所述刻划预定线的方向，使所述刻划轮与玻璃基板压接的同时沿着所述刻划预定线移动。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板刻划方法，其中，
所述第3工序中的所述刻划轮的移动方向经变更部分的拐点的轨迹的半径小于5mm。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板刻划方法，其中，
所述第1工序中的开始位置被设定为，在所述第2工序中到所述刻划预定线为止的移动轨迹的长度为1mm以上且在3mm以下。
4.根据权利要求1或2所述的玻璃基板刻划方法，其中，
所述玻璃基板的强化层具有压缩应力，所述玻璃基板的内部具有拉伸应力。
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