[发明专利]抗蚀剂膜形成用装置和方法以及模具原版制造用方法无效
| 申请号: | 201210356483.X | 申请日: | 2012-09-21 |
| 公开(公告)号: | CN103034060A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
| 发明(设计)人: | 城崎友秀 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
| 主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F1/56;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 陈桂香;武玉琴 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 抗蚀剂膜 形成 装置 方法 以及 模具 原版 制造 | ||
1.一种抗蚀剂膜形成用装置,其包括:
涂布部,所述涂布部被设置成在让基板旋转的同时使抗蚀剂滴落、旋转并铺开;
加热部,所述加热部被设置用于加热样品,所述样品中在所述基板上涂布有所述抗蚀剂;
计量部,所述计量部被设置用于测量正在被所述加热部加热的所述样品的重量;以及
控制部,所述控制部被设置成通过如下方式来控制多个抗蚀剂层在所述样品上的层叠:基于由所述计量部测量到的所述样品的重量,执行所述加热部的加热操作直到从涂布于所述样品上的抗蚀剂中蒸发掉预定量的溶剂,以此实现在所述基板上形成抗蚀剂层的工序,并且通过对所述涂布部和所述加热部进行同样的控制,使在形成于所述样品上的抗蚀剂层上形成新的抗蚀剂层的工序重复预定的次数。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂膜形成用装置,其中,
在所要形成的所述抗蚀剂膜中,将所述溶剂的蒸发量的阈值设定成使得所述阈值从最下层的抗蚀剂层到最上层的抗蚀剂层是增大的,
并且,所述控制部被设置成进行如下控制:执行所述加热部的加热操作直到从各个抗蚀剂层中蒸发掉的溶剂量达到对应的阈值。
3.根据权利要求2所述的抗蚀剂膜形成用装置,还包括:水平度保持部,所述水平保持部被设置用来当所述样品正在被所述加热部加热时保持所述样品的水平度。
4.根据权利要求3所述的抗蚀剂膜形成用装置,其中,所述加热部被设置成将所述样品封闭在密闭的空间内进行加热。
5.根据权利要求4所述的抗蚀剂膜形成用装置,还包括:
传送托盘,所述传送托盘布置于所述涂布部的旋转平台上,在所述涂布部中,所述样品被放置于所述传送托盘的上表面上;以及
传送部,所述传送部被设置用于在所述涂布部与所述加热部之间传送处于放置有所述样品的状态下的所述传送托盘。
6.根据权利要求5所述的抗蚀剂膜形成用装置,其中,在所述基板的上表面上在所述基板的外周部附近设置有圆柱形容器。
7.根据权利要求6所述的抗蚀剂膜形成用装置,其中,在所述圆柱形容器的下表面上涂布有粘合剂,并且所述圆柱形容器的下表面与所述基板的上表面被紧密粘合。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的抗蚀剂膜形成用装置,还包括:
第一分隔部,所述第一分隔部用于分隔布置有所述涂布部的空间与布置有所述传送部的空间;以及
第二分隔部,所述第二分隔部用于分隔布置有所述传送部的空间与布置有所述加热部的空间,
其中,所述控制部被设置成至少进行如下控制:使得在所述涂布部涂布抗蚀剂的期间内所述第一分隔部是关闭的,并且在所述加热部的加热期间内所述第二分隔部是关闭的。
9.一种抗蚀剂膜形成用方法,其包括如下步骤:
在让基板旋转的同时使抗蚀剂滴落、旋转并铺开;
加热样品,所述样品中在所述基板上涂布有所述抗蚀剂;
测量正在被加热的所述样品的重量;
基于所测量到的所述样品的重量,执行加热操作直到从涂布于所述样品上的抗蚀剂中蒸发掉预定量的溶剂,由此实现在所述基板上形成抗蚀剂层的工序;以及
使在形成于所述样品上的抗蚀剂层上形成新的抗蚀剂层的工序重复预定的次数,由此在所述样品上层叠多个抗蚀剂层。
10.一种模具原版制造用方法,其包括以下步骤:
在让基板旋转的同时使抗蚀剂滴落、旋转并铺开;
加热样品,所述样品中在所述基板上涂布有所述抗蚀剂;
测量正在被加热的所述样品的重量;
基于所测量到的所述样品的重量,执行加热操作直到从涂布于所述样品上的抗蚀剂中蒸发掉预定量的溶剂,由此实现在所述基板上形成抗蚀剂层的工序;
使在形成于所述样品上的抗蚀剂层上形成新的抗蚀剂层的工序重复预定的次数,由此在所述样品上层叠多个抗蚀剂层;
利用具有不透明部的掩模,对由所述多个抗蚀剂层形成的抗蚀剂膜进行光照射并曝光;以及
对曝光后的所述样品进行显影,由此在所述抗蚀剂膜上形成预定的图形。
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