[发明专利]一种大口径光学元件激光预处理的方法及装置

权利要求书

1.一种大口径光学元件激光预处理的方法，其特征在于：包括以下步骤：首先将预处理激光光束入射到被处理样品-大口径光学元件的表面，并对被处理样品表面上的处理点1进行辐照预处理，然后由被处理样品表面上的处理点1反射回来的激光光束经激光能量回收反射镜反射后再次照射到被处理样品表面上的处理点2进行辐照预处理；如此类推，激光经激光能量回收反射镜后多次与被处理样品表面相互作用，在被处理样品表面上的处理点1到处理点N均进行辐照预处理。

2.根据权利要求1所述的一种大口径光学元件激光预处理的方法，其特征在于：所述的预处理激光光束在入射到被处理样品的表面前，经过激光能量调整控制系统和激光光束整形处理系统。

3.一种大口径光学元件激光预处理的装置，包括有激光光源，其特征在于：还包括有相对被处理样品表面设置的激光能量回收反射镜。

4.根据权利要求3所述的一种大口径光学元件激光预处理的装置，其特征在于：所述的激光光源的后端设置有预处理激光能量调整控制系统和激光光束处理系统。

5.根据权利要求3所述的一种大口径光学元件激光预处理的装置，其特征在于：所述的激光光源的后端设置有光学楔板，光学楔板的第一反射输出端后设置有CCD成像系统，其第二反射输出端后设置有分光装置，分光装置的两分光输出端后分别设置有光电探测器和激光能量测量系统。

6.根据权利要求3所述的一种大口径光学元件激光预处理的装置，其特征在于：所述的激光能量回收反射镜的侧部设置有激光光束吸收装置。

7.根据权利要求3所述的一种大口径光学元件激光预处理的装置，其特征在于：所述的大口径光学元件激光预处理的装置还包括有相对被处理样品背面设置的照明及成像系统。