[发明专利]激光熔覆原位合成硼化物陶瓷涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种激光熔覆原位合成硼化物陶瓷涂层的制备方法，其特征在于该方法是按照以下步骤进行的：

（1）基体预处理

对加工好的连铸结晶器铜材基体工作表面进行除油、除锈预处理，得到光亮平整的表面；

（2）激光熔覆

采用预置粉末或同步送粉激光熔覆的方式，将供硼剂、催渗剂和填料粉末采用球磨机进行充分混合并干燥后做为熔覆材料，在氩气保护下，调节激光熔覆工艺参数，使熔覆材料与连铸结晶器铜材基体表面原位反应形成硼化物陶瓷涂层。

2.如权利要求1所述的一种激光熔覆原位合成硼化物陶瓷涂层的制备方法，其特征在于所述的供硼剂为BC₄、催渗剂为KBF、填料为SiC，三者的质量百分含量分别为供硼剂10~30%，催渗剂10~20%，余量填料，三者的粒度均为300目。

3.如权利要求1所述的一种激光熔覆原位合成硼化物陶瓷涂层的制备方法，其特征在于所述的激光熔覆工艺参数为：激光功率1000~2500W、光斑直径Φ2~4mm、光斑移动速度5~20mm/s、激光熔覆过程采用侧吹12~18L/min氩气对熔覆区域进行保护。

4.一种根据权利要求1~4任一项所述的制备方法得到的激光熔覆原位合成硼化物陶瓷涂层，其特征是该涂层的厚度为0.1~1mm。

5.如权利要求4所述的一种激光熔覆原位合成硼化物陶瓷涂层，其特征在于该涂层中硼化物陶瓷相组成除Cu-B硼化物外，还可以包括Zr-B、Fe-B、Cr-B硼化物。