[发明专利]一种表征涂层垂直表面的开裂状态的方法

权利要求书

1.一种表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）制备掺杂有具有发光性能的元素的涂层；

（2）将至少一条光纤放置在距离所述涂层预设距离的不同位置，并将光纤与光谱仪连接；

（3）对涂层施加载荷，每条光纤接收涂层对应位置发出的光谱信号并传递到光谱仪；

（4）对每条光纤接收到的光谱信号进行调整基线处理，并提取特征峰强度；

（5）绘制归一化处理后的特征峰强度比随载荷的分布图，根据特征峰强度比的变化判断该光纤对应的涂层垂直表面的开裂状态。

2.如权利要求1所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（5）中，特征峰强度比的降低对应涂层中的裂纹数量的增加或裂纹宽度的增大。

3.如权利要求1所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，进一步包括：

（6）比较不同光纤对应的特征峰强度比的变化，其中特征峰强度比降低最明显的位置，即为涂层垂直表面开裂最严重的位置。

4.如权利要求1或2所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（1）中，所述具有发光性能的元素包括稀土元素。

5.如权利要求4所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（1）中，所述具有发光性能的元素包括Dy和Tm。

6.如权利要求1所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（1）中，所述具有发光性能的元素在所述涂层中的摩尔百分比为0.5~1%。

7.如权利要求1或2所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（1）中，采用等离子喷涂方法制备所述涂层。

8.如权利要求1或2所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（1）中，所述涂层通过一过渡层与基体连接。

9.如权利要求1或2所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（2）中，将至少一条光纤放置在距离所述涂层10-20mm的不同位置。

10.如权利要求9所述的表征涂层垂直表面的开裂状态的方法，其特征在于，所述步骤（2）中，将至少一条光纤放置在距离所述涂层15mm的不同位置。