[发明专利]介质处理装置及介质处理方法有效
申请号: | 201210325554.X | 申请日: | 2012-09-05 |
公开(公告)号: | CN103035060A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 石谷常彦 | 申请(专利权)人: | 日立欧姆龙金融系统有限公司 |
主分类号: | G07D7/20 | 分类号: | G07D7/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 处理 装置 方法 | ||
1.一种介质处理装置,该介质处理装置具有:
运送单元,运送所投入的投入物;
发光单元,朝向所运送的所述投入物发出照明光;
摄影单元,接受该发光单元的所述照明光由所述投入物反射的反射光,并拍摄所述投入物;
存储单元,存储由该摄影单元拍摄到的所述投入物的摄影图像;
异物识别单元,根据从所述摄影图像抽取的投入物的轮廓来判定所述投入物是否是可处理的介质,如果所述投入物不是所述可处理的介质,则将所述投入物识别为异物,并且输出表示所述异物的形状的异物图像;以及
显示单元,显示所述异物图像。
2.根据权利要求1所述的介质处理装置,
所述介质处理装置具有根据所述异物图像计算所述异物的大小的异物尺寸计算单元,
所述显示单元构成为将所述异物的大小与所述异物图像一起显示。
3.根据权利要求1或2所述的介质处理装置,
在所述存储单元中,针对表示真圆度的真圆指标,存储表示远离真圆的第1阈值和表示接近真圆的第2阈值,
所述异物识别单元构成为执行以下处理:
指标计算处理,根据从所述摄影图像抽取的所述投入物的轮廓计算所述投入物的所述真圆指标;
判定处理,将所述第1阈值和所述第2阈值中的至少一方与所述投入物的所述真圆指标进行比较,判定所述投入物是否是可处理的介质,在所述投入物不是可处理的介质的情况下,将所述投入物判定为异物;以及
异物形状输出处理,在所述投入物不是可处理的介质的情况下,输出表示所述异物的形状的异物图像。
4.根据权利要求3所述的介质处理装置,
在所述判定处理中,将所述投入物的所述真圆指标与所述第1阈值进行比较,如果所述真圆指标是表示比所述第1阈值更远离真圆的值,则判定为不是可处理的介质,并且将所述投入物判定为异物,
在所述异物形状输出处理中,将所述投入物的摄影图像作为异物图像进行输出。
5.根据权利要求3所述的介质处理装置,
在所述判定处理中,将所述投入物的所述真圆指标与第1阈值及第2阈值进行比较,如果所述真圆指标在所述第1阈值与所述第2阈值之间,则判定为不是可处理的介质,并且将所述投入物判定为异物,
在所述异物形状输出处理中,对所述摄影图像实施边缘处理,跟踪从所述轮廓的拐点起边缘成分较高的部分来抽取异物的形状,并输出通过抽取异物的形状而得到的异物图像。
6.根据权利要求3所述的介质处理装置,
在所述存储单元中存储通过拍摄至少一个所述可处理的介质而得到的基准模板图像,
在所述判定处理中,将所述投入物的所述真圆指标与所述第2阈值进行比较,如果所述真圆指标是表示比所述第2阈值更接近真圆的值,则按照每个像素将所述投入物的摄影图像与所述基准模板进行比较,如果像素的差分量较大,则判定为不是可处理的介质,并且将投入物判定为异物,
在所述异物形状输出处理中,跟踪所述基准模板图像与所述摄影图像的差分量较大的像素来抽取异物的形状,并输出通过抽取异物的形状而得到的异物图像。
7.一种介质处理方法,包括如下步骤:
运送所投入的投入物,并朝向所运送的所述投入物发出照明光;
存储通过接受该照明光由所述投入物反射的反射光并拍摄所述投入物而得到的摄影图像,根据从所述摄影图像抽取的投入物的轮廓来判定所述投入物是否是可处理的介质;
如果所述投入物不是所述可处理的介质,则将所述投入物识别为异物,并且输出表示所述异物的形状的异物图像并进行显示。
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