[发明专利]快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法及系统

说明书

技术领域

本发明涉及电磁场的场均匀性的校准技术领域，特别涉及一种快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法及系统。

背景技术

现有技术中，瞬变电磁场场均匀性的校准方法及系统通常需要频繁移动用于支撑和固定探头的支架的位置；并且支架的位置固定后，还需要反复调整探头在支架上的具体位置。因此，现有技术的校准方法及系统存在校准过程复杂、繁琐，校准速度慢，校准耗时长的问题。

目前，非常需要一种过程简便、速度快、耗时短的瞬变电磁场场均匀性的校准方法及系统。

发明内容

本发明的目的是提供一种快速校准瞬变电磁场场均匀性的系统。

本发明的另一目的是提供一种快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法。

本发明提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的系统包括支撑杆、转轴、测试杆、定位装置、探头和示波器，所述转轴设于所述支撑杆的顶端，所述测试杆的一端安装于所述转轴上且能够绕所述转轴转动，所述探头固定于所述测试杆的自由端，且所述探头与所述示波器电连接，所述测试杆与所述转轴的连接处设有所述定位装置，所述定位装置用于将所述测试杆限定在所述测试杆所在的一个平面内，且能够使所述测试杆在任意位置固定。

优选地，所述系统还包括与所述支撑杆的底端固接的底座。

优选地，所述支撑杆的高度可调。

优选地，所述系统还包括设于所述测试杆上的长度调节装置，用于调节所述测试杆的长度。

本发明提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法采用所述的快速校准瞬变电磁场场均匀性的系统，该方法包括如下步骤：

选定矩形校准平面的顶点为测量点；

将所述转轴置于校准平面的中心，通过所述调节定位装置使得所述测试杆被限定在校准平面内，通过选择所述测试杆的长度使得所述探头能够到达校准平面的各顶点处；

在校准平面内转动所述测试杆，使得所述探头分别位于校准平面的各顶点处，通过所述探头测量得到校准平面的各顶点处的场强值。

优选地，通过所述长度调节装置调节所述测试杆的长度使得所述探头能够到达校准平面的各顶点。

优选地，所述矩形校准平面包括正方形校准平面。

本发明具有如下有益效果：

(1)与现有技术的校准方法和系统相比，所述方法及系统不需要频繁移动用于支撑和固定探头的支架的位置，并且支架的位置固定后，也不需要反复调整探头在支架上的具体位置；

(2)所述方法及系统的校准过程简便，校准速度快，校准耗时短。

附图说明

图1为本发明实施例1提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法及系统的示意图；

图2为本发明各实施例提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法的流程图；

图3为本发明实施例2提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法及系统的示意图；

图4为本发明实施例3提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法及系统的示意图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本发明的发明内容作进一步的描述。

实施例1：

本实施例提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的系统包括支撑杆1、转轴2、测试杆3、定位装置4、底座5、探头6和示波器7，如图1所示。转轴2设于支撑杆1的顶端。支撑杆1的底端与底座5固接。在本实施例中，支撑杆1的高度例如可调。测试杆3的一端安装于转轴2上且能够绕转轴2转动。探头6固定于测试杆3的自由端，且探头6与示波器7电连接。测试杆3与转轴2的连接处设有定位装置4。定位装置4用于将测试杆3限定在测试杆3所在的一个平面内，且能够使测试杆3在任意位置固定。在本实施例中，测试杆3的长度例如不可调，需要根据校准平面的尺寸选择测试杆3的长度。

如图1和图2所示，本实施例提供的快速校准瞬变电磁场场均匀性的方法采用上述系统，该方法包括如下步骤：

S1：选定矩形校准平面ABCD的四个顶点即A、B、C和D点为测量点；

S2：将上述校准系统的转轴2置于矩形校准平面ABCD的中心，通过调节定位装置4使得测试杆3被限定在校准平面ABCD内，通过选择测试杆3的长度使得探头6能够到达校准平面ABCD的各顶点处；

S3：在校准平面ABCD内转动测试杆3，使得探头6分别位于校准平面ABCD的各顶点处，通过探头6分别测量得到校准平面ABCD各顶点处的场强值E_A、E_B、E_C和E_D。