[发明专利]一种可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品

权利要求书

1.一种可热处理的低辐射镀膜玻璃，膜层结构自玻璃基板向上依次包括：玻璃基板、第一介质层、红外反射层和第二介质层，其特征在于：所述第二介质层包括：1)第二介质膜，选自ZrO₂和ZrOxNy（0<y<x<2）中的至少一种；2)沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮氧化物中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二介质层还包括沉积在所述第二介质膜之下的第一介质膜，所述第一介质膜包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc等元素中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二介质层的第二介质膜的几何厚度为5～50nm，所述第二介质层的第三介质膜的几何厚度为5～100nm。

4.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：红外反射层和第一介质层之间还设置有第一阻隔层，所述第一阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：红外反射层和第二介质层之间还设置有第二阻隔层，所述第二阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物。

7.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述红外反射层为银层或含银的合金层。

8.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一介质层的几何厚度为20～70nm，红外反射层的几何厚度为8～20nm，第二介质层的几何厚度为20～120nm。

9.一种夹层玻璃制品，包括两块玻璃和两块玻璃之间的夹层聚合物，其特征在于：两块玻璃中至少一块选自权利要求1～8任一所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，所述可热处理的低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。