[发明专利]一种在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备凹透镜阵列结构的方法有效
| 申请号： | 201210305555.8 | 申请日： | 2012-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN102799066A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 阙文修;张雪花 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G02B3/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 陆万寿 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化 有机 无机 光敏 复合 薄膜 制备 凹透镜 阵列 结构 方法 | ||
1.一种在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备凹透镜阵列结构的方法，其特征在于：
1）首先，利用JKG-2A型光刻机通过圆形阵列掩模板在AZ5214-E型光刻胶上采用接触式曝光60s，然后在AZ-Developer型号的显影液中显影60s得到圆柱体阵列结构，然后将所得到的圆柱体阵列结构在热板上160℃热回流30分钟，得到具有凸透镜阵列结构的光刻胶母版；
2）将型号为Sylgard184的PDMS预聚物和固化剂按10∶1的重量比混合搅匀，并将其放入真空干燥箱中直至气泡完全去除，然后，将其浇注在具有凸透镜阵列结构的光刻胶母版上并烘干固化，最后将固化完全的PDMS从凸透镜阵列结构的光刻胶母版上剥离，得到具有凹透镜阵列结构的PDMS软模板；
3）将2）中去除完气泡的PDMS预聚物和固化剂的混合物浇注到具有凹透镜阵列结构的PDMS软模板上，并烘干固化，最后将固化完全的PDMS剥离，得到具有凸透镜阵列结构的PDMS软模板；
4）利用旋涂层工艺，以每分钟1000转的转速在载玻片上制备具有紫外光敏特性的二氧化钛有机无机复合薄膜，并以此作为压印层，将具有凸透镜阵列结构的PDMS软模板压印到复合薄膜上，然后将其置于紫外灯正下方曝光固化，最后将固化完全的光敏复合薄膜从将具有凸透镜阵列结构的PDMS软模板剥离，在烘箱中干燥，从而在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备得到了凹透镜阵列结构。
2.根据权利要求1所述的在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备凹透镜阵列结构的方法，其特征在于：所述步骤4）紫外灯的波长为365nm，电流为15mW/cm2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学，未经西安交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210305555.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
