[发明专利]一种用于光刻曝光的快门装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201210296891.0 申请日: 2012-08-21
公开(公告)号: CN103631066A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 孙智超;罗闻 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03B7/08 分类号: G03B7/08;G03B9/10;G03B9/60;G03F7/20
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 光刻 曝光 快门 装置 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种用于光刻曝光的快门装置,其特征在于,包括固定叶片和可动叶片,所述固定叶片和所述可动叶片上分布有孔洞,所述固定叶片和所述可动叶片在光束照射区域内的孔洞分布相同,所述可动叶片可通过相对于所述固定叶片运动,使所述可动叶片孔洞与所述固定叶片孔洞由不相交至重合或部分重合,实现快门的开闭。

2.根据权利要求1所述的快门装置,其特征在于,所述可动叶片相对于所述固定叶片运动为绕转动轴转动。

3.根据权利要求1所述的快门装置,其特征在于,所述可动叶片相对于所述固定叶片运动为平移运动。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的快门装置的使用方法,其特征在于,包括:

将所述可动叶片孔洞与所述固定叶片孔洞完全交错分开状态设置为快门关闭状态,此时可动叶片的位置为关闭位置;

确定曝光剂量范围,将曝光剂量范围分段;

确定各个曝光剂量段的可动叶片位置;

根据曝光设定剂量,控制可动叶片在所述关闭位置和所述曝光设定剂量所属的曝光剂量段的可动叶片位置之间移动。

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