[发明专利]基于热加速腐蚀的射流研抛机构有效
| 申请号： | 201210292852.3 | 申请日： | 2012-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN102886745A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 马臻;许亮;丁蛟腾;陈钦芳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24C3/02 | 分类号： | B24C3/02;B24C5/00;B24C9/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 杨引雪 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 加速 腐蚀 射流 机构 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于控制腐蚀的光学元件加工机构，包括被加工件固定装置，其特征在于：还包括用于提供加工运动轨迹的执行装置、用于储存腐蚀液的储液装置、用于加热腐蚀液的加热装置、用于控制腐蚀液加热温度和加工运动轨迹的控制装置；所述执行装置上设置有喷嘴，储液装置通过连接管道依次与加热装置和喷嘴连接。
2.根据权利要求1所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构，其特征在于：所述控制装置包括依次连接的温度控制器、工业PC和执行装置控制器；所述温度控制器和加热装置连接，执行装置控制器和执行装置连接。
3.根据权利要求2所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构，其特征在于：所述执行装置是6轴工业机器人或机械手臂。
4.根据权利要求3所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构，其特征在于：所述储液装置和加热装置之间设置有用于过滤杂质的过滤器。
5.根据权利要求1至4任一所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构，其特征在于：所述被加工件固定装置、执行装置和储液装置均设置于密闭空间内。
6.根据权利要求5所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构，其特征在于：所述喷嘴与被加工件之间的距离在加工时保持恒定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所，未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210292852.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
