[发明专利]光学分析装置和光学分析方法

权利要求书

1.一种光学分析装置，包括

光源；

导光板，被配置为将入射光从光源导向每个反应区；

光屏蔽结构，被配置为限制从反应区的内部发射的光束的发射方向；以及

检测系统，被配置为检测通过光的照射从反应区的内部发射的光束。

2.根据权利要求1所述的光学分析装置，其中所述光源是激光光源。

3.根据权利要求1所述的光学分析装置，其中所述光源是发光二极管光源。

4.根据权利要求1所述的光学分析装置，其中所述光源包括激光光源和发光二极管光源。

5.根据权利要求1所述的光学分析装置，其中所述光源照射具有不同波长的光线，使得能够时分地检测从反应区的内部发射的光束。

6.根据权利要求1所述的光学分析装置，其中所述光屏蔽结构被放置以接触到衬底的表面，在该衬底中形成由所述光学分析装置使用的所述反应区。

7.根据权利要求1所述的光学分析装置，其中所述光屏蔽结构具有被配置为限制光束的发射方向的多个孔。

8.根据权利要求1所述的光学分析装置，其中所述光学分析装置起到核酸扩增反应装置的作用。

9.一种光学分析方法，包括：

通过使用导光板，将从光源照射的光导向每个反应区；

经由被配置为限制光束的发射方向的光屏蔽结构，将从反应区的内部发射的光束引向检测系统；以及

通过使用检测系统检测所述光束。