[发明专利]卷闸式循环比可调氧化沟装置及其操作方法有效

专利信息
申请号: 201210245284.1 申请日: 2012-07-16
公开(公告)号: CN102718372A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 于静洁;郑淑平;王少坡 申请(专利权)人: 天津城市建设学院
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F3/30
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 陆艺
地址: 300384 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 卷闸式 循环 可调 氧化 装置 及其 操作方法
【说明书】:

技术领域

发明属于环境工程中的污水处理技术领域,涉及一种卷闸式循环比可调氧化沟装置及其操作方法。

背景技术

1954年,世界上第一座氧化沟污水处理厂在荷兰建立,历经了几十年的发展。目前,氧化沟工艺设计规范或手册中均未将循环比(循环廊道断面通过的循环流量和进水流量的比值)作为工艺设计参数。设计过程中,常依据设计规范或手册选定污泥浓度、污泥负荷、污泥龄等设计参数值,之后计算得到氧化沟所需的容积,最后依据场地等要求,确定氧化沟的廊道宽度、深度及长度和廊道数目,最终导致了已建氧化沟工艺循环比差异很大,见表1。

表1已建氧化沟工艺的循环比

注:QTOT=86400·v·B·H=Qin+RsQin+RQin,故

式中:QToT--通过循环廊道断面的总流量,m3/d;Qin--单座氧化沟进水流量,m3/d

R--循环比;B--廊道宽,m;H--有效水深,m;86400—时间单位秒与天转化系数。

RS--污泥回流比,估取1(即100%);v--混合液流速,估取0.3m/s。

由于循环比在氧化沟工艺设计中并未作为设计参数被设计者考虑在内。此外,污水处理厂投产运行后,进水流量并不是管理人员能调控的参数,而是由外界情况所决定。已建成氧化沟工艺系统廊道宽(B)及有效水深(H,是氧化沟池底上表面到氧化沟池最高设计水位的距离)是定值。而混合液在沟内的流速过小会导致污泥沉降淤积。流速过大一方面会造成运行不经济;另一方面会使活性污泥絮体粒径变小,这样泥水混合液由氧化沟池进入沉淀池后沉降性能变差,最终会使氧化沟工艺系统的出水水质变差。所以氧化沟内混合液流速常保持在0.3m/s左右。氧化沟工艺系统的污泥回流比(由沉淀池回流至反应池的污泥量与进水流量的比值)经验值在0.75-1.5之间(即75%-150%),数值较小,因此污泥回流比Rs的微小波动对循环比R没有很大影响。

在现有的氧化沟工艺技术中,有在循环廊道内加装具有一定孔径的插板,但是插板的过流面积是固定的,因此对于这样的氧化沟工艺,其循环比也不能调节,也是定值。

综上可知,现有氧化沟工艺技术中存在以下问题:循环比未能成为可有效调控的工艺运行参数,因此导致了不投加化学药剂仅依靠活性污泥微生物降解作用的氧化沟工艺难以使脱氮除磷同时达到较高去除率。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种卷闸式循环比可调氧化沟装置。

本发明的第二个目的是提供一种卷闸式循环比可调氧化沟装置的操作方法。

本发明的技术方案概述如下:

一种卷闸式循环比可调氧化沟装置,厌氧池2通过管路依次与氧化沟池3、沉淀池4、污泥回流泵5的进水端连接,污泥回流泵5的出水端通过管路与厌氧池2连接;厌氧池2的侧壁上设置有进水管1;连接沉淀池4与污泥回流泵5的进水端的管路上设置有三通6,三通6的第三出口与剩余污泥排放管7连接;沉淀池4的上部设置有出水管8;在厌氧池2内部设置有搅拌器9;氧化沟池3划分为好氧区和缺氧区,在好氧区起始端和缺氧区起始端分别设置有卷闸式循环比调控设备12,在好氧区内设置有高速转刷11,在缺氧区内设置有低速转刷10,所述卷闸式循环比调控设备12包括操作杆13,操作杆13与卷闸板14的顶部固定连接,卷闸板14的两侧在卷闸板轨道16中滑行,操作杆13与卷闸板轨道16的顶部活动连接,卷闸板14的下端与氧化沟池3池底的上表面之间留有通道,操作杆13的一端与电动操作装置或手动操作转盘连接。

一种卷闸式循环比可调氧化沟装置的操作方法,包括如下步骤:

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