[发明专利]显像剂层限制部件和显像装置无效
申请号: | 201210241946.8 | 申请日: | 2012-07-06 |
公开(公告)号: | CN102880029A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 吉川忠伸 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显像 限制 部件 装置 | ||
技术领域
本发明涉及使用通过将非磁性调色剂和磁性载体混合而制成的两组分显像剂的显像装置和用于该显像装置的显像剂层限制部件(developer layer restriction member)。
背景技术
作为用于常规的图像形成装置的显像装置,有使用通过将非磁性调色剂和磁性载体混合而制成的两组分显像剂的两组分显像体系的显像装置。与不使用磁性载体的单组分显像体系相比,该两组分显像体系需要许多用于构成显像装置的部件,由此提高显像装置的成本。因此,已尝试用树脂成型部件代替构成两组分显像装置的部件的金属成型部件。
其中,如日本专利申请公开No.11-133733中所述,特别是在单组分显像装置中,已进行了由树脂成型部件制成限制显像辊上的显像剂量的显像剂层限制部件。
但是,在两组分显像装置中,如果由树脂成型部件制成显像剂层限制部件,将会产生如下的两个问题。
首先,对第一个问题进行说明。在显像剂层限制部件的显像辊旋转方向上游侧形成显像剂积存区(puddle)。因此,当显像剂通过显像剂层限制部件的限制部与显像辊之间时,在显像剂层限制部件与显像剂之间产生大的摩擦力。此时,如果显像剂层限制部件为金属成型部件,在显像剂层限制部件几乎没有产生摩擦力。但是,如果显像剂层限制部件为树脂成型部件,伴随着使用两组分显像装置,显像剂层限制部件的限制部的磨耗逐渐发展。
显像剂层限制部件的限制部的磨耗发展时,显像剂层限制部件的限制部与显像辊表面之间的距离变得比所需的值大,以致被显像剂层限制部件限制后的显像辊上负载的显像剂的量变得比所需的量大。此时,在显像辊与光电导体鼓(photoconductor drum)相对的显像区域中,显像剂可能滞留以致可能引起显像剂的溢流、载体附着于光电导体鼓、图像劣化,例如调色剂附着于非图像部(所谓的雾化(fog))。
接下来,对第二个问题进行说明。显像剂层限制部件为树脂成型部件时,与金属成型部件相比,其表面粗糙度(凹凸)大,并且树脂成型部件为绝缘体,以致调色剂的细粉末或外部添加剂非常容易附着于显像剂层限制部件的表面以在其上固定。图12C是表示使用常规的树脂成型部件的显像剂层限制部件的情况下在高温和高湿度下使用显像装置时显像剂层限制部件周围的状态的示意图。如图12C中所示,特别地,在高温和高湿度下使用两组分显像装置时,由于调色剂树脂的软化和水的介入,在显像剂层限制部件的表面与调色剂的细粉末或外部添加剂之间产生的附着力变大并且显著。
这样,在显像剂层限制部件41的表面上,特别是限制部附近,调色剂的细粉末或外部添加剂的团块生长。这种情况下,显像剂层限制部件41的限制部与显像辊(显像套筒(development sleeve)4c)的表面之间的距离变得小于所需的值,以致被显像剂层限制部件41限制后的显像辊上负载的显像剂的量变得小于所需量。此时,在显像辊与光电导体鼓相对的显像区域中,由于显像剂与光电导体鼓之间的接触面积的减少和调色剂量的减少,可能引起图像劣化例如图像的浓度降低。
因此,本发明的目的在于提供显像剂层限制部件,即使由树脂成型部件来制造两组分显像装置的显像剂层限制部件,其也能够抑制显像剂溢流、与光电导体鼓的载体附着、与非图像部的调色剂附着和图像劣化例如图像的浓度降低。
发明内容
为了解决上述问题,提供典型的显像剂层限制部件和显像装置。该显像剂层限制部件限制在可旋转的显像剂载体上保持的显像剂量,该可旋转的显像剂载体负载有显像剂并且将该显像剂搬运到与像负载部件相对的显像区域,该显像剂通过将非磁性调色剂和磁性载体混合而制成。该显像剂层限制部件包括由树脂制成的基材树脂板和在该显像剂层限制部件的表面上设置的树脂硬涂层,该树脂硬涂层通过用比该基材树脂板的树脂硬的树脂涂布该基材树脂板而制成。
根据本发明,即使由树脂成型部件来制造两组分显像装置的显像剂层限制部件,也能够抑制显像剂溢流、与光电导体鼓的载体附着、与非图像部的调色剂附着和图像劣化例如图像的浓度降低。
由以下参照附图对例示实施方案的说明,本发明进一步的特点将变得清楚。
附图说明
图1是根据第一实施方案的图像形成装置的构成图;
图2是根据第一实施方案的图像形成单元的构成图;
图3A是根据第一实施方案的显像剂层限制部件的构成图;图3B是根据第一实施方案的另一显像剂层限制部件的构成图;
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