[发明专利]液体喷射设备和湿空气供应方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于喷射例如墨的液体的液体喷射设备和用于该液体喷射设备的湿空气供应方法。

背景技术

液体喷射设备包括具有喷射面的头，该喷射面具有通过其喷射例如墨的液体的喷射开口。如果液体长时间未从喷射开口喷射，则靠近喷射开口的液体粘度由于液体的蒸发而增加，这可能导致喷射开口堵塞。例如，专利文献1(日本专利申请特开2005-212138)公开了一种用于抑制喷射开口堵塞的技术。

在该技术中，喷射面被凹状帽(加帽部)覆盖，从而形成与外部空间隔离的喷射空间。具有包括形成在帽中的空气引入开口和空气出口开口的空气通道的空气调节装置(湿空气供应器)通过将湿空气从空气引入开口供应到喷射空间中并将喷射空间中的空气从空气出口开口排出而加湿喷射空间。结果，抑制靠近喷射开口的液体的蒸发，这防止喷射开口堵塞。

发明内容

附带地，当从头喷射的液体接触例如帽和喷射面的部件的与喷射空间面对的区域时，与部件接触的液体的水分含量由于随着时间逝去的干燥而下降。如果在其水分已减少的液体粘着到与喷射空间面对的区域的状态下，湿空气被供应到喷射空间中，则剩余液体成分作为干燥剂且吸收湿空气的水分，使得不能够快速加湿喷射空间。

本发明已被作出以提供一种能够快速加湿与头的喷射面面对的喷射空间的液体喷射设备和用于该设备的湿空气供应方法。

本发明提供一种液体喷射设备，包括：液体喷射头，所述液体喷射头具有喷射面，所述喷射面具有至少一个喷射开口，所述液体喷射头经由所述喷射开口喷射用于在记录介质上形成图像的液体，喷射空间被限定为与所述喷射面面对；密封机构，所述密封机构被构造成选择性地建立(i)所述密封机构将所述喷射空间与外部空间密封的密封状态和(ii)所述密封机构不将所述喷射空间与所述外部空间密封的开放状态中的一个；空气引入开口，当所述密封机构处于所述密封状态时所述空气引入开口被构造成在与所述喷射空间面对的区域中开放；湿空气供应器，所述湿空气供应器被构造成将湿空气从所述空气引入开口供应到处于所述密封状态的所述喷射空间；清洁器，所述清洁器被构造成清洁与所述液体喷射头和所述密封机构的面对所述喷射空间的区域的至少一部分接触的液体；和控制器，所述控制器被构造成控制所述清洁器以在所述湿空气供应器的供应之前清洁液体。

本发明还提供一种用于液体喷射设备的湿空气供应方法，所述液体喷射设备包括：液体喷射头，所述液体喷射头具有喷射面，所述喷射面具有至少一个喷射开口，所述液体喷射头经由所述喷射开口喷射用于在记录介质上形成图像的液体，喷射空间被限定为与所述喷射面面对；和密封机构，所述密封机构被构造成选择性地建立(i)所述密封机构将所述喷射空间与外部空间密封的密封状态和(ii)所述密封机构不将所述喷射空间与所述外部空间密封的开放状态中的一个；所述湿空气供应方法包括：清洁步骤，其清洁与所述液体喷射头和所述密封机构的区域的至少一部分接触的液体；和供应步骤，其在所述清洁步骤之后，当所述密封机构处于所述密封状态时从被构造成在与所述喷射空间面对的区域中开放的空气引入开口供应湿空气。

在上述液体喷射设备和方法中，在将湿空气供应到喷射空间之前，清洁和去除已经与液体喷射头和密封机构的面对喷射空间的区域接触的液体，使得快速加湿喷射空间。

在所述液体喷射设备中，所述控制器被构造成在所述密封状态下所述清洁器清洁液体之后，控制所述湿空气供应器以在所述密封机构的所述密封状态持续的状态下供应湿空气。

根据如上所述的构造，能够有效加湿喷射空间。

所述液体喷射设备进一步包括加湿命令输入部，所述加湿命令输入部被构造成将加湿命令输入到所述控制器。所述控制器被构造成控制所述清洁器以响应由所述加湿命令输入部输入的所述加湿命令清洁液体。

根据如上所述的构造，仅当与液体喷射头和/或密封机构的面对喷射空间的区域接触的液体需要被清洁时清洁器才能够执行清洁。

所述控制器被构造成判断在所述湿空气供应器执行所述供应之前是否需要通过所述清洁器进行清洁。所述控制器被构造成当判断出在所述供应之前需要所述清洁时控制所述清洁器在所述供应之前进行所述清洁。

根据如上所述的构造，仅当与液体喷射头和/或密封机构的面对喷射空间的区域接触的液体需要被清洁时清洁器才能够执行清洁。

在所述液体喷射设备中，所述控制器被构造成基于从通过清洁器进行的前一清洁逝去的时间长度进行判断。