[发明专利]光学无标记血清学检测方法及其系统无效

专利信息
申请号: 201210228601.9 申请日: 2012-07-03
公开(公告)号: CN103293109A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 荣国光;尹亚楠;宋盖燕 申请(专利权)人: 上海恩光电子科技有限公司
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 卢刚
地址: 200001 上海市黄*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 标记 血清学 检测 方法 及其 系统
【权利要求书】:

1.一种光学无标记血清学检测方法,其特征在于,包含以下步骤:

提供一多孔硅光学微谐振腔生物传感器;

将所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器包被生物探针分子;

采集所述包被生物探针分子后的多孔硅光学微谐振腔生物传感器所产生的第一光信号;

利用所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器捕获目标生物分子;

采集所述捕获目标生物分子后的多孔硅光学微谐振腔生物传感器所产生的第二光信号;

根据所述第一光信号和所述第二光信号的比较结果,得到检测结果。

2.根据权利要求1所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,将所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器包被生物探针分子的步骤中,包含以下子步骤:

A、氧化所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器的多孔硅微谐振腔薄膜表面;

B、对所述多孔硅微谐振腔薄膜表面进行硅烷化处理;

C、对所述多孔硅微谐振腔薄膜表面进行醛基化处理;

D、在所述多孔硅微谐振腔薄膜表面附着符合检测需求的生物探针分子。

3.根据权利要求2所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,在所述子步骤D中,采用以下方式附着所述生物探针分子:

共价键链接、静电吸附、分子间相互作用力吸附。

4.根据权利要求2所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,所述子步骤D中,包含以下步骤:

D1、将多孔硅微谐振腔薄膜在探针分子溶液中浸泡预定的第一时长;

D2、利用缓冲液冲洗取出的多孔硅微谐振腔薄膜,并用氮气吹干;

D3、将所述多孔硅微谐振腔薄膜在所述缓冲液中浸泡预定的第二时长;

D4、利用所述缓冲液冲洗取出的所述多孔硅微谐振腔薄膜,并用氮气吹干。

5.根据权利要求4所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,

所述第一时长为1至2小时;

所述第二时长为5至20分钟;

所述缓冲液为pH值为7.4的磷酸盐PBS缓冲液。

6.根据权利要求1所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,利用所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器捕获目标生物分子的步骤中,包含以下子步骤:

在所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器的多孔硅微谐振腔薄膜表面,滴加带有所述目标生物分子的待测溶液,并静置预设的第三时长;

用缓冲液冲洗所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器的多孔硅微谐振腔薄膜,并用氮气吹干;

将所述多孔硅微谐振腔薄膜浸泡在所述缓冲液中,所述浸泡的时间为预设的第四时长;

利用所述缓冲液冲洗取出的所述多孔硅微谐振腔薄膜,并用氮气吹干。

7.根据权利要求6所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,

所述第三时长为1至2小时;

所述第四时长为5至20分钟;

所述缓冲液为pH值为7.4的磷酸盐PBS缓冲液。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,所述比较结果为所述第一光信号和所述第二光信号的光谱比较结果。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的光学无标记血清学检测方法,其特征在于,所述目标生物分子包含以下任意类型的生物分子:

蛋白质、疾病标志物、抗原抗体。

10.一种光学无标记血清学检测系统,其特征在于,包含:多孔硅光学微谐振腔生物传感器、光信号采集器和计算机;

所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器用于包被生物探针分子和捕获目标生物分子;

所述光信号采集器用于采集所述包被生物探针分子后的多孔硅光学微谐振腔生物传感器所产生的第一光信号,和采集所述捕获目标生物分子后的多孔硅光学微谐振腔生物传感器所产生的第二光信号;

所述计算机用于对所述光信号采集器采集的第一光信号和所述第二光信号进行比较,并根据所述比较结果,得到检测结果。

11.根据权利要求10所述的光学无标记血清学检测系统,其特征在于,所述多孔硅光学微谐振腔生物传感器包括:

上布拉格反射镜、下布拉格反射镜以及夹在上布拉格反射镜和下布拉格反射镜之间的缺陷层;

所述上布拉格反射镜和下布拉格反射镜分别包括:周期循环交替排列的高折射率层和低折射率层。

12.根据权利要求11所述的光学无标记血清学检测系统,其特征在于,

所述上布拉格反射镜和下布拉格反射镜分别包括五个周期循环交替排列的高折射率层和低折射率层;

所述缺陷层厚度为所述高折射率层的厚度的2倍。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海恩光电子科技有限公司,未经上海恩光电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210228601.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top