[发明专利]用于原子氧散射角分布及侵蚀率测量的试验系统

权利要求书

1.一种用于原子氧散射角分布及侵蚀率测量的试验系统，包括靶台机构、铝散射板、两端开口的散射腔体、Kapton薄膜、SiO₂/Kapton薄膜以及原子氧发生系统，散射腔体的下端开口设置在叠置于靶台机构上的铝散射板上，Kapton薄膜设置在散射腔体内表面，中心设置有圆孔的SiO₂/Kapton薄膜机械固定在散射腔体的上端开口，设置在散射腔体上方的原子氧发生系统通过上述圆孔向散射腔体内产生原子氧，散射腔体内的SiO₂/Kapton薄膜表面以及Kapton薄膜表面上分别散落设置有不与原子氧反应起保护作用的NaCl颗粒，散射腔体底部的铝散射板对入射原子氧进行不同角度的散射。

2.如权利要求1所述的试验系统，其中，NaCl颗粒通过物理方法不会脱落地散落设置在SiO₂/Kapton薄膜以及Kapton薄膜上，且与其接触的薄膜位置无压痕损伤。

3.如权利要求1所述的试验系统，其中，靶台结构为能够空间转动的靶台结构，以对不同入射角的原子氧束的散射角分布及侵蚀率进行测定。

4.如权利要求1所述的试验系统，其中，铝散射板表面有凹槽，与散射腔体的底部紧密配合。

5.如权利要求1-4任一项所述的试验系统，其中，原子氧发生系统为束流式原子氧发生系统，能够产生束流密度为10¹⁴-10¹⁶atoms/cm²·s的中性原子氧。

6.如权利要求1-4任一项所述的试验系统，其中SiO₂/Kapton薄膜的SiO₂面能够抵制原子氧的侵蚀，Kapton面用于与散射原子氧反应。

7.如权利要求1-4任一项所述的试验系统，其中，机械固定是通过用固定螺栓连接散射腔体、SiO₂/Kapton薄膜及靶台机构来固定的。