[发明专利]磁记录介质用玻璃基板及使用该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质

说明书

技术领域

本发明涉及磁记录介质用玻璃基板及使用该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质。

背景技术

作为磁盘记录装置等所使用的磁记录介质用基板，目前一直使用铝合金基板。但是，近年来，随着高记录密度化的要求，比铝合金基板硬、平坦性及平滑性优异的玻璃基板逐渐成为主流。

而且，近年来，随着磁盘（下面也称为磁记录介质。）的高记录密度化，磁信号被微细地记录于磁盘上，随之信号逐渐变得微弱。为了该微弱的信号的读取及记录，要求使磁盘和磁头的距离尽可能接近。

为了减小以高速旋转的磁盘和磁头之间的距离、即磁头的浮起量，需要将磁盘的基板即磁记录介质用玻璃基板的表面设为微小波纹度小的平坦的表面，以使磁盘和磁头不接触。

迄今为止，如例如专利文献1中所记载，利用激光多普勒仪或振动计等对磁记录介质用玻璃基板的表面的任意选择的一部分区域进行微小波纹度的评价。

专利文献1：国际公开第2009／084534号

但是，利用现有的评价方法得到的磁记录介质用玻璃基板中，虽然在测定了的区域确保一定的平面度，但在除此以外的区域，有时局部地具有微小波纹度大的部分或凹凸。

例如，当局部地存在微小波纹度大的部分时，在作为磁盘使用时，磁头和磁盘之间的距离因部位不同而大幅变动，磁噪声增加。因此，具有记录的读写精度、记录密度降低的问题。另外，由于磁盘和磁头可能接触，因此，还具有难以减小两者之间的距离的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述现有技术具有的问题而创立的，其目的在于，提供一种对于磁记录介质用玻璃基板的记录重放区域的整个面微小波纹度的变化量在规定的范围内的磁记录介质用玻璃基板。

为了解决上述课题，本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板，具有一对主平面、外周端面和内周端面，其特征在于，对于至少一侧的主平面，在格子状的各评价区域测定微小波纹度（nWq）时，一个评价区域和与该一个评价区域相邻的评价区域之间的微小波纹度的变化量的绝对值（ΔnWq）相对于所述一个评价区域的微小波纹度的比率（变化率）为10％以下，在所述格子状的各评价区域测定的微小波纹度（nWq）的平均值为0.080nm以下，其中，所述格子状的各评价区域是在包含制成磁盘时成为记录重放区域的区域的整个面的主平面的整个面上设定的。

发明效果

根据本发明的磁记录介质用玻璃基板，至少一侧的主平面的整个面上微小波纹度（均方根波纹度）的变化量在规定的范围内，因此，在制成磁盘的情况下，能够减小磁盘和磁头之间的距离。另外，由于磁盘和磁头之间的距离稳定，因此，与现有技术相比，可提高记录的读写精度、记录密度。

附图说明

图1是本发明第一实施方式的磁记录介质用玻璃基板及其评价区域的说明图。

具体实施方式

下面，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明，但本发明不限于下述的实施方式，不脱离本发明的范围而可以在下述实施方式中加入各种变形及置换。

[第一实施方式]

在本实施方式中，对本发明的磁记录介质用玻璃基板进行说明。

首先，本发明的磁记录介质用玻璃基板具有一对主平面、外周端面和内周端面。而且，其特征在于，对于磁记录介质用玻璃基板的至少一侧的主平面的包含制成磁盘时成为记录重放区域的区域的整个面的整个面，测定以格子状设定的各评价区域的微小波纹度（nWq）时，一个评价区域和与该一个评价区域相邻的评价区域之间的微小波纹度的变化量的绝对值（ΔnWq）相对于上述一个评价区域的微小波纹度的比率（下面，也称为微小波纹度的变化率）为10％以下。

可认为，磁头的浮起高度的变动因磁盘表面、即磁记录介质用玻璃基板的主平面的局部的微小波纹度的急剧变化而产生。

如上所述，目前，例如利用在主平面的任意两个部位的区域测定的波纹度的值进行评价，但在该方法中不能评价主平面的局部性的微小波纹度的急剧变化。

关于此，例如，即使在两个部位的区域上的测定值存在较大的差时，在磁盘整个面上波纹度缓慢变化的情况下，也不会产生磁头的浮起高度的急剧变动。另外，即使两个部位的区域上的测定值的差较小时，在该区域以外存在局部地微小波纹度较大变化的部分的情况下，也会产生磁头的浮起高度的急剧变动。

这样，在现有的评价方法中，不能正确地评价对磁头的浮起高度的变动造成的影响，不能充分实现磁盘的高记录密度化。