[发明专利]一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模同步优化方法

权利要求书

1.一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模同步优化方法，其特征在于，具体步骤为：

步骤101、将光源初始化为大小为N_S×N_S的光源图形J，将掩模图形M初始化为大小为N×N的目标图形其中N_S和N为整数；

步骤102、设置初始光源图形J上发光区域的像素值为1，不发光区域的像素值为0；设定N_S×N_S的变量矩阵Ω_S：当J(x_s，y_s)＝1时，当J(x_s，y_s)＝0时，其中J(x_s，y_s)表示光源图形上各像素点(x_s，y_s)的像素值；设置初始掩模图形M上开口部分的透射率为1，阻光区域的透射率为0；设定N×N的变量矩阵Ω_M：当M(x，y)＝1时，当M(x，y)＝0时，其中M(x，y)表示掩模图形上各像素点(x，y)的透射率；

步骤103、将目标函数D构造为目标图形与当前光源图形和掩模图形对应的光刻胶中成像之间的欧拉距离的平方，即其中为目标图形各像素点的像素值，Z(x，y)表示利用Abbe矢量成像模型计算当前光源图形和掩模图形对应的光刻胶中成像各像素点的像素值；

步骤104、计算目标函数D对于变量矩阵Ω_S的梯度矩阵将光源图形上各像素点的像素值之和J_sum近似为给定常数，得到梯度矩阵的近似值计算目标函数D对于变量矩阵Ω_M的梯度矩阵

步骤105、利用最陡速降法更新变量矩阵Ω_S，更新Ω_S为其中为预先设定的光源优化步长，获取对应当前Ω_S的光源图形J，J(xs,ys)=12[1+cosΩS(xs,ys)];]]>

利用最陡速降法更新变量矩阵Ω_M，更新Ω_M为其中为预先设定的掩模优化步长，获取对应当前Ω_M的掩模图形M，获取对应当前M的二值掩模图形M_b，t_m为预定参量；

步骤106、计算当前光源图形J和二值掩模图形M_b对应的目标函数D的值；当该值小于预定阈值或者更新变量矩阵Ω_S和Ω_M的次数达到预定上限值时，进入步骤107，否则返回步骤104；

步骤107，终止优化，并将当前光源图形J和掩模图形M_b确定为经过优化后的光源图形和掩模图形。