[发明专利]用于耳廓再造手术的耳支架定位装置无效

专利信息
申请号: 201210176861.6 申请日: 2012-05-31
公开(公告)号: CN102727342A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 王韶亮;赵映兰;石小花;潘正英;樊东力 申请(专利权)人: 中国人民解放军第三军医大学第二附属医院
主分类号: A61F11/00 分类号: A61F11/00
代理公司: 北京元本知识产权代理事务所 11308 代理人: 秦力军
地址: 400037 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 用于 耳廓 再造 手术 支架 定位 装置
【权利要求书】:

1.一种用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:包括头圈(1)、上端连接于头圈(1)前侧正中的参考条(2)、两根上端与头圈(1)连接的耳定位条(3)和一一对应连接于耳定位条(3)上的对比测量条(4),所述两根耳定位条(3)竖直设置于参考条(2)两侧,所述头圈(1)、参考条(2)、耳定位条(3)和对比测量条(4)上均设有长度刻度。

2.根据权利要求1所述的用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:所述头圈(1)上的长度刻度由头圈(1)前侧正中向两侧对称分布。

3.根据权利要求2所述的用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:所述耳定位条(3)上端与头圈(1)滑动配合。

4.根据权利要求3所述的用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:所述对比测量条(4)与耳定位条(3)滑动配合。

5.根据权利要求4所述的用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:所述对比测量条(4)为软条。

6.根据权利要求5所述的用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:所述耳定位条(3)上端与头圈(1)铰接形成可前后摆动的结构,耳定位条(3)上设置有0-180度量角器(6),量角器(6)的0度刻度端固定在耳定位条(3)上。

7.根据权利要求6所述的用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:所述耳定位条(3)上垂直设置可上下滑动的耳边缘高度测量尺(7),所述耳边缘高度测量尺(7)以可沿其自身轴向往复滑动的方式设置于耳定位条(3)上。

8.根据权利要求1-7任意一项所述的用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:所述头圈(1)前侧正中设置有水平仪(5)。

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