[发明专利]光学防伪元件、使用该光学防伪元件的产品及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210174152.4 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN102975568A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 孙凯;王晓利;朱军;李欣毅;曲欣;张巍巍 申请(专利权)人: 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司
主分类号: B44F1/12 分类号: B44F1/12;G02B3/06
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;南毅宁
地址: 100070 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光学 防伪 元件 使用 产品 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光学防伪领域,尤其涉及一种光学防伪元件、使用该光学防伪元件的产品及其制备方法。

背景技术

钞票、身份证件、有价证券等物品因具有高附加值而易受到模仿和伪造的威胁。为利于公众快速鉴别高附加值印刷品的真伪并抵抗当今数码技术对其的复制,全息、光变、微透镜阵列等光学防伪技术被广泛使用。

微透镜阵列防伪技术利用微透镜作为微采样工具对相应的微图文进行采样,通过设计不同观察角度下的采样点,可呈现具有动画效果的、人眼可见的动感放大图像。这些效果包括正交动感、下沉、上浮、立体、旋转、缩放、双通道等等(请见US2008/0036196A1)。具体使用时,可将该技术与莫尔放大技术(参见文章:“Properties of moire magnifiers”,Hala Kamal,Reinhard Volkel和Javier Alda,Optical Engineering,37(11),3007-3014,1998年11月))相结合,利用周期性排列的微透镜(一种微采样工具)与周期性排列且周期与微透镜接近的微图文来产生上述的多种动画效果,其中微图文位于微透镜的焦点附近。

为了在不同的环境下都易于识别,微图文和背景需有足够的对比度,即需对微图文进行着色。由于所需的微图文结构非常精细(约几个微米),一般印刷技术无法达到该精度。目前有两类着色的方法。一类方法如CN1906547A等专利所公开:在微图文区域形成一定深度的凹陷,利用刮涂工艺将着色材料填充至凹陷中,而微图文区域之外的多余材料则被基本刮除。为实现较好的着色,这种方法对微图文的线条宽度和凹陷深度以及二者的匹配关系有较大的限制。另一类办法是利用微纳结构,如专利US20030179364公开了利用大深宽比的光学吸收结构实现黑色的微图文着色,专利US20100307705A1公开了利用纳米颗粒填充或台阶型的金属纳米结构实现微图文的着色。

上述的着色方法或者难以实现彩色化的着色,或者难以在生产中实现(例如,台阶型的结构和镀层对微图文的平面覆盖方式)。

发明内容

本发明针对现有技术中的上述缺陷,提供一种能够克服上述缺陷的光学防伪元件、使用该光学防伪元件的防伪产品及其制备方法。

本发明提供一种光学防伪元件,该光学防伪元件包括基材,所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面,所述第一表面上覆盖有微采样工具,所述第二表面的一部分为由微浮雕结构形成的微图文、另一部分为未形成微图文的平坦结构和/或与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构,所述平坦结构和与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构上同形覆盖有第一镀层,形成微图文的所述微浮雕结构上同形覆盖有第二镀层,所述微采样工具对所述微图文进行采样。

本发明还提供一种使用上述光学防伪元件的防伪产品。

本发明还提供一种制备上述光学防伪元件的方法,该方法包括:提供基材,所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面;在所述基材的第一表面上形成微采样工具;在所述基材的第二表面的一部分上形成由微浮雕结构形成的微图文,在所述基材的第二表面的另一部分上形成未形成微图文的平坦结构和/或与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构;以及在未形成微图文的所述平坦结构和与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构上同形覆盖第一镀层,并在形成微图文的所述微浮雕结构上同形覆盖第二镀层。

由于根据本发明的光学防伪元件和防伪产品采用了由微浮雕结构形成的微图文和同形覆盖微图文的镀层,而且微图文之外的区域则是未形成微图文的平面结构和/或与形成微图文的微浮雕结构不同的微浮雕结构,所以能够使形成微图文的微浮雕结构区域与未形成微图文的其他区域呈现明显不同的视觉光学效果,如不同的颜色、不同的质感、不同的变化等,并可实现微图文和放大后的动感图像的完全彩色化,还可进行多种防伪特征的集成,从而产生更强的公众吸引力和更高的抗伪造能力。而且,根据本发明的该光学防伪元件和防伪产品还可利用本领域的通用设备进行批量生产。

附图说明

根据以下的附图和详细说明,本领域技术人员可清楚知道本发明的特征及优点。但是本领域技术人员应该理解,为了清楚展示结构特征,以下附图没有按照比例绘制。

图1是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的剖面图;

图2(a)和2(b)是根据本发明一种实施方式的光学防伪元件的平面图及放大后平面图;

图3是根据本发明另一实施方式的光学防伪元件的剖面图;

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