[发明专利]镓离子场发射微推进器

权利要求书

1.一种镓离子场发射推进器，其特征在于，包括：

发射部，具有毛细通道和毛细尖端；

加速部，位于所述发射部的前端，并与所述毛细尖端相邻，所述加速部的与所述毛细尖端相对应的位置开设有加速条状栅口，在所述毛细尖端和加速部之间施加有预定电压的电场；

屏蔽部，位于发射部周围，用于屏蔽所述加速部发射的电子流；

存储部，与所述毛细通道相连通，用于存储金属镓，与所述发射部之间具有预定的间距；

金属镓通过毛细作用，由所述存储部经由所述毛细通道流到所述毛细尖端，在施加的所述电场的作用下产生离子羽流，从而获得推力。

2.如权利要求1所述的镓离子场发射推进器，其特征在于，所述加速部为大致1毫米厚的金属板，所述栅口开设在金属板的中间，所述栅口断面处倒角形成尖端，并且所述栅口表面形成为光洁面。

3.如权利要求1所述的镓离子场发射推进器，其特征在于，所述发射部包括：对称的两块板状金属块构成，在两块金属块之间经镀膜构成微流结构层，从而形成所述毛细通道，在所述金属块上开设有导通所述毛细通道和存储部的通孔。

4.如权利要求3所述的镓离子场发射推进器，其特征在于，所述板状金属块的材料为高温合金。

5.如权利要求4所述的镓离子场发射推进器，其特征在于，所述毛细通道高度为大致1μm，宽度为2～20毫米，深度为10～15毫米。

6.如权利要求1所述的镓离子场发射推进器，其特征在于，所述存储部的材料为钼合金。