[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备有效
| 申请号: | 201210160361.3 | 申请日: | 2012-05-22 |
| 公开(公告)号: | CN102799084A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
| 发明(设计)人: | 野中正树;田中正人 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G03G5/05 | 分类号: | G03G5/05;G03G5/07;G03G5/147;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
| 地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 处理 设备 | ||
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件并涉及各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
背景技术
安装在电子感光设备中的电子照相感光构件的一个实例为包含有机光导电性物质(电荷产生物质)的有机电子照相感光构件(下文中简称为“电子照相感光构件”)。已广泛研究电子照相感光构件。近年来,为了电子照相感光构件的长寿命化及高图像品质化的目的,已期望改进图像缺失(image deletion)作为对电子照相感光构件的机械耐久性(耐磨耗性)的改进的响应。
图像缺失为其中模糊的静电潜像造成模糊的输出图像的现象。认为图像缺失的原因是由残留在电子照相感光构件的表面上的由充电造成的放电生成物改变电子照相感光构件的表面的组成材料的性质。
可通过使用含有添加剂的电子照相感光构件减少图像缺失。日本专利特开2007-279678号提出了通过以下而用于防止图像缺失的方法:提供包括含有特定胺化合物的电子照相感光构件的固化性树脂的表面层。日本专利特开63-097959号提出将脲化合物添加到感光层以防止由活性气体引起的电子照相感光构件的劣化。
然而,本发明人发现在日本专利特开2007-279678中描述的胺化合物趋于减少电子照相感光构件的电位稳定性,并具有不充分的图像缺失防止效果。日本专利特开63-097959号中描述的脲化合物具有不充分的图像缺失防止效果,并趋于降低电位稳定性。
发明内容
本发明提供包括支承体和设置在所述支承体上的感光层的电子照相感光构件。电子照相感光构件具有优异的电位稳定性并减少图像缺失。本发明还提供各自包括该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
这些可通过本发明来实现。
本发明涉及包括支承体(光导电性支承体)和设置在该支承体上的感光层的电子照相感光构件。电子照相感光构件具有表面层,所述表面层包含具有两个或多个脲部分的脲化合物。所述脲部分各自具有羰基和两个氮原子。两个氮原子各自连接至烷基和取代的或未取代的芳基或者取代的或未取代的亚芳基。
本发明还提供可拆卸地安装到电子照相设备的主体的处理盒。所述处理盒一体化地支承电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置。
本发明还提供一种电子照相设备,其包括电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
本发明可提供包括支承体和设置在所述支承体上的感光层的电子照相感光构件。电子照相感光构件具有优异的电位稳定性并减少图像缺失。本发明还提供各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
参考附图,从以下示例性实施方案的描述中,本发明进一步的特征将变得明显。
附图说明
图1A和1B为根据本发明实施方案的电子照相感光构件的层结构的示意图。
图2为包括含有根据本发明实施方案的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意图。
具体实施方式
如上所述,本发明提供包括导电支承体和设置在所述导电支承体上的感光层的电子照相感光构件。电子照相感光构件具有表面层,所述表面层包含具有两个或多个脲部分的脲化合物。所述脲部分各自包括羰基和两个氮原子。两个氮原子各自连接至烷基和取代的或未取代的芳基或者取代的或未取代的亚芳基(连接至烷基和取代的或未取代的芳基或亚芳基)。
脲化合物可为由下式(1)表示的化合物、由下式(2)表示的化合物和由下式(3)表示的化合物。
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