[发明专利]多平台系统、用于多平台系统的控制方法以及光刻设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种多平台系统、用于控制这种多平台系统的方法以及包括这种多平台系统的光刻设备。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单个的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。

为了定位物体，例如定位衬底台，通常使用所谓的平台系统。一种目前正在发展的平台系统类型是单平台系统，其包括：基本上平行于第一方向X和第二方向Y延伸的定子，其中第二方向Y垂直于第一方向X；和第一平台，第一平台在第一和第二方向上相对于定子是可移动的。这种单平台系统的示意示例在图2中示出。定子通过附图标记1示出，第一平台用附图标记3表示。

第一平台3设置有磁体系统。为了简单起见，可以假定在图2的示例中第一平台的整个底部区域由磁体系统占据。磁体系统产生在第一平台下面且在第一平台附近、从磁体系统延伸至定子的磁场。

定子设置有电绕组5的阵列，其中仅一部分用附图标记5表示，电绕组配置成与由第一平台的磁体系统产生的磁场相互作用以便产生在第一平台上的力以相对于定子在第一和第二方向上定位它们。

要注意的是，定子通常安装至框架或通过框架承载，因而作为固定的大地工作。第一平台能够相对于定子移动。平台系统因此是磁体移动类型，而不是更通常使用的绕组移动类型。

当使用基础控制相对于定子定位平台时，定子上的全部绕组被激励。然而，在这种配置情况下，大多数绕组不在具有其磁体系统的第一平台的附近并因此与所产生的磁场具有最小的相互作用。此外，这不允许可以相对于定子通过使用相同的绕组独立地定位的第二平台。

为了避免这种情形，仅激励绕组的子组，使得仅激励那些与磁场具有不可忽略的相互作用的绕组，其中不可忽略的相互作用可以通过第一平台的所需要的位置精确度来确定。绕组的子组的一个示例在图2中通过实心绕组5表示。如在该示例中示出的，仅激励那些直接在第一平台下面(即磁体系统下面)的绕组。直接在第一平台下面的绕组用阴影表示。

在图3中，示出多平台系统，其中两个平台，即第一平台3和第二平台7，相对于具有多个电绕组5的定子1是可移动的。为了定位第一平台3，选择并激励电绕组的第一子组(用实心绕组表示)。同时，通过选择并激励绕组的第二子组(用虚线绕组表示)来定位第二平台。

这种配置的优点在于，两个平台可以同时独立地相对于同一定子定位。然而，两个平台不能彼此靠近地接近，这使得某些类型的操作不能被执行。

发明内容

期望提供一种多平台系统，其中两个平台能够彼此靠近地接近。

根据本发明的一个实施例，提供一种多平台系统，包括：

定子，基本上平行于第一方向延伸；

第一平台，相对于定子沿第一方向是可移动的；

第二平台，相对于定子沿第一方向是可移动的；

其中第一和第二平台每一个设置有磁体系统以产生磁场，

其中定子设置有多个电绕组，所述电绕组配置成与由第一和第二平台的磁体系统产生的磁场相互作用以便产生对第一和第二平台的力以相对于定子定位它们，

多平台系统还包括：

传感器系统，用于相对于定子确定第一和第二平台的位置；

控制单元，用以沿第一方向相对于定子定位第一和第二平台，其中控制单元配置成：

-基于传感器的输出确定第一平台在第一方向上相对于定子的位置；

-选择电绕组的第一子组，所述电绕组的第一子组能够具有与在所确定的第一平台位置处的第一平台的磁体系统的磁场的不可忽略的相互作用；

-基于传感器系统的输出确定第二平台相对于定子在第一方向上的位置；