[发明专利]线性均衡器有效

专利信息
申请号: 201210133324.3 申请日: 2012-04-28
公开(公告)号: CN103379063A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 朱红卫;刘国军 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H04L25/03 分类号: H04L25/03;H04L25/02
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 线性 均衡器
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种半导体集成电路,特别是涉及一种线性均衡器。

背景技术

CMOS集成电路性能持续提高使得在电缆或者基板上以高达几个Gb/s的速度传输信号成为可能。但是,几个Gb/s速度的数据串行通信会受到带宽的限制。带宽限制主要是由于电介质损耗,趋肤效应和传输介质的阻抗不连续性造成的。在带宽受限的通道里,当数据速度超过带宽时,接收到的信号将由于符合间干扰(inter-symbol interference,ISI)而产生很严重的失真。现有技术中通常是在接收机中采用均衡器来补偿或减少ISI。

Choi等人在《A 0.18-μm CMOS 3.5-gb/s continuous-time adaptive cable equalizer using enhanced low-frequency gain control method》一文中公开了一种均衡器,该文出处为:IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS,VOL.39,NO.3,MARCH 2004,pp.419-425。如图1所示,为Choi等人在上述文章中所公开的一种现有均衡器的结构示意图。该均衡器包括有NMOS晶体管M2和M3组成一差分输入对管,包括两个差分输入信号inn、inp和两个差分输出信号outn、outp,NMOS晶体管M2和M3的漏极都分别连接已电阻RL。NMOS晶体管M2和M3的源极都分别连接一电流源,两个电流源分别是有晶体管M4和M5加以偏置nbias后形成。电阻RD连接于NMOS晶体管M2和M3的源极之间。电容Cd1和Cd2都为由NMOS晶体管的源漏连接形成的变容二极管(Varactor),电容Cd1和Cd2分别连接于NMOS晶体管M2和M3的源极和地之间,电容Cd1和Cd2的栅极端分别和MOS晶体管M1的源漏极相连,MOS晶体管M1的栅极连接控制信号gctrl,电容Cd1和Cd2的另一电极端连接控制信号zctrl。该均衡器的特点是利用电容Cd1和Cd2和电阻RD形成一零点,从而能在提高高频增益。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种线性均衡器,能用于高速串行传输中,能形成两个零点,实现低频小增益、高频大增益,能较大提升高频增益,提高均衡性能。

为解决上述技术问题,本发明提供的线性均衡器包括:

由第一MOS晶体管和第二MOS晶体管组成差分输入对管,所述第一MOS晶体管和第二MOS晶体管的栅极分别为一对差分输入信号的输入端,所述第一MOS晶体管和第二MOS晶体管的漏极分别为一对差分输出信号的输出端,所述第一MOS晶体管和第二MOS晶体管的源极分别连接一电流源。

所述第一MOS晶体管的漏极依次串联有第一电阻和第一电感,所述第二MOS晶体管的漏极也依次串联有第一电阻和第一电感;所述第一电阻和所述第一电感要求能产生一个高于通道带宽的零点。

第二电阻,该第二电阻的两端分别和所述第一MOS晶体管和所述第二MOS晶体管的源极相连。

第三MOS电容和第四MOS电容,所述第三MOS电容和所述第四MOS电容分别由一源极和漏极短接的MOS晶体管组成,所述第三MOS电容的栅极端和所述第一MOS晶体管的源极和所述第二MOS晶体管的源极中的一个相连,所述第四MOS电容的栅极端和所述第一MOS晶体管的源极和所述第二MOS晶体管的源极中的另一个相连;所述第三MOS电容和所述第四MOS电容的另一电极端连接在一起;所述第二电阻和所述第三MOS电容和所述第四MOS电容要求能产生另一个高于通道带宽的零点。

进一步的改进是,线性均衡器还包括一CMOS传输门,该CMOS传输门由第五NMOS晶体管和第六PMOS晶体管连接形成;该CMOS传输门输入端和输出端连接于所述第三MOS电容的栅极和所述第四MOS电容的栅极之间;所述第五NMOS晶体管和所述第六PMOS晶体管的栅极分别连接一对反相的信号。

进一步的改进是,所述线性均衡器还包括一第一CMOS反相器和第二CMOS反相器,所述第一CMOS反相器的输出端和所述第二CMOS反相器的输入端相连;所述第一CMOS反相器的输入端连接使能信号,所述第一CMOS反相器和所述第二CMOS反相器的输出端提供一对反相的信号到所述第五NMOS晶体管和所述第六PMOS晶体管的栅极上。

进一步的改进是,所述第一MOS晶体管和所述第二MOS晶体管都为NMOS晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司,未经上海华虹NEC电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210133324.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top