[发明专利]带有冷却通道的构件及制造方法

权利要求书

1.一种制造构件(100)的方法，所述方法包括：

在衬底(110)的外表面(112)中形成一个或多个凹槽(132)，其中，各个凹槽(132)至少部分地沿着所述衬底(110)的所述表面(112)延伸，并具有基部(134)、顶部(136)以及至少一个排出端(170)；

形成邻近各个凹槽(132)的相应的排出点(170)的流出区域(172)；以及

在所述衬底(110)的所述表面(112)的至少一部分上面设置涂覆物(150)，其中，所述一个或多个凹槽(132)和所述涂覆物(150)限定用于冷却所述构件(100)的一个或多个通道(130)。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过将磨蚀性液体射流(160)指向所述衬底(110)的所述外表面(112)来形成各个凹槽，其中，通过将所述磨蚀性液体射流(160)从所述衬底(110)的所述外表面(112)升高来形成各个流出区域(172)，使得各个流出区域(172)是斜的。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述流出区域(172)比相应的凹槽(132)更宽，其中，所述涂覆物(150)不跨接所述一个或多个流出区域(172)，使得各个流出区域(172)为相应的凹槽(132)形成膜孔(174)，其中，所述涂覆物(150)的一部分淀积在所述一个或多个流出区域(172)中，所述方法进一步包括移除淀积在各个流出区域中的所述涂覆物(150)的至少一部分，使得各个流出区域(172)为相应的凹槽(132)形成膜孔(174)。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂覆物(150)的一部分淀积在所述一个或多个流出区域(172)中，所述方法进一步包括移除淀积在各个流出区域中的所述涂覆物(150)的至少一部分，使得各个流出区域(172)为相应的凹槽(132)形成膜孔(174)。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括：

在形成所述一个或多个凹槽(132)之前，在所述衬底(110)的所述外表面(112)上淀积短效涂覆物(30)，其中，借助于通过所述短效涂覆物(30)而加工所述衬底(110)来形成各个凹槽(132)和流出区域(172)；以及

在将所述涂覆物(150)淀积在所述衬底(110)的所述外表面(112)上面之前，移除所述短效涂覆物(30)。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括在至少一个凹槽(132)的相应的排出点(17)处形成一个或多个额外的流出区域(172)。

7.一种构件(100)，包括：

衬底(110)，其包括外表面(112)和内表面(116)，其中，所述外表面(112)限定一个或多个凹槽(132)和一个或多个流出区域(172)，其中，各个凹槽(132)至少部分地沿着所述衬底(110)的所述外表面(112)延伸，并具有基部(134)和至少一个排出点(170)，并且其中，各个流出区域(172)邻近相应的凹槽(132)的相应的排出点(170)；以及

涂覆物(150)，其设置在所述衬底(110)的所述外表面(112)的至少一部分上面，使得所述一个或多个凹槽(132)和所述涂覆物(150)共同限定用于冷却所述构件(100)的一个或多个通道(130)，

其中，所述内表面(116)限定至少一个中空内部空间(114)，并且其中，一个或多个进入孔(140)延伸通过所述一个或多个凹槽(132)中的相应的一个的所述基部(134)，以将所述凹槽(132)布置成与所述至少一个中空内部空间(114)中的相应的一些处于流体连通。

8.根据权利要求7所述的构件(100)，其特征在于，所述流出区域(172)比相应的凹槽(132)的顶部(136)更宽，并且其中，所述涂覆物(150)不跨接所述一个或多个流出区域(172)，使得各个流出区域(172)为相应的凹槽(132)形成膜孔(174)。