[发明专利]连续式镀膜设备及生产工艺

权利要求书

1.一种连续式镀膜设备，包含有多弧离子源、真空装置、进气装置和温控装置的真空镀膜机构，其特征在于：由有进料口的进料室、有出料口的出料室和真空镀膜室构成耐压的密封空间，所述的真空镀膜室两端分别与进料室、出料室密封连接，所述的真空镀膜机构设在真空镀膜室，其中，所述的进料室设有放卷轴，放卷轴上设有刹车机构；所述的出料室设有收卷轴，收卷轴由电机带动；所述的真空镀膜室内设有张力辊。

2.根据权利要求1所述的连续式镀膜设备，其特征在于：所述的进料室和出料室均为圆形、椭圆形或矩形，放卷轴、收卷轴安装在不低于圆形、椭圆形、矩形中轴位置，进料室的进料口和出料室的出料口设在放卷轴、收卷轴的一端，由带密封的门密闭。

3. 根据权利要求1或2所述的连续式镀膜设备，其特征在于：所述的进料室的放卷轴一侧外端连接刹车机构，另一侧设置进料口；所述的出料室的收卷轴一侧外端与电机轴连接，另一侧设置有出料口。

4.根据权利要求1所述的连续式镀膜设备，其特征在于：所述的真空镀膜室由若干个真空传送区段密封连接构成，每1～6m为一个真空传送区段。

5. 根据权利要求4所述的连续式镀膜设备，其特征在于：在所述的真空传送区段上设置真空装置、进气装置、充气阀和温控装置。

6. 根据权利要求1或4所述的连续式镀膜设备，其特征在于：所述的真空镀膜室的外壳由钢板拼接构成，在钢板上设有网状加强筋。

7. 根据权利要求4所述的一种连续式镀膜设备，其特征在于：在所述的真空传送区段的下端，均匀安装有若干个多弧离子源。

8.一种根据权利要求1至7之一所述连续式镀钛设备的生产工艺，依序按下述步骤：

第一，将待镀金属基材放入进料室的放卷轴上，将待镀金属基材头部牵引端从进料室经过真空镀膜室被牵引至出料室的收卷轴上，待镀金属基材的头端到达真空镀钛室的尾端，由张紧辊张紧，并调节刹车阻力，使金属基材能够张紧；

第二，关闭进料口和出料口的门，对真空镀膜机构进行加热和抽真空，至密封空间真空度达到2×10^-2Pa，开启多弧离子源、充氮气和/或乙炔气，并即刻开动收卷电机，带动收卷轴匀速收卷； 

第三，待镀金属基材放卷至钢卷尾端时，关闭收卷轴的电机，关闭真空镀膜机构，即所有气体阀、多弧离子源和真空系统； 

第四，打开充气阀充入空气至常压时，开启出料室的门取出镀膜金属基材，完成一个生产周期。

9.权利要求8所述的生产工艺，其特征在于：每个多弧离子源电压是20V，电流是50～400A，温度是80～300℃，金属基材通过镀膜室的速度为0.5～60米/分钟。