[发明专利]种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器无效

专利信息
申请号: 201210097219.9 申请日: 2012-04-05
公开(公告)号: CN102646920A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 朱小磊;王君涛;陆婷婷;臧华国;刘丹 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: H01S3/16 分类号: H01S3/16;H01S3/0941;H01S3/08;H01S3/109
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 种子 注入 倍频 532 nm 单纵模 激光器
【权利要求书】:

1.一种种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器装置,特征在于其结构包括腔外种子光路(1)、U形从动谐振腔(2)、电学控制处理(3)和腔内倍频(4)四部分:

所述的腔外种子光路部分(1)依次由种子激光器(1-1)、隔离器(1-2)、半波片(1-3)、第一1/4波片(1-4)、耦合透镜组(1-5、1-6)、第一反射镜(1-7)和第二反射镜(1-8)组成;

所述的U形从动谐振器腔部分(2)依次由后腔镜(2-6)、调Q晶体(2-7)、第二1/4波片(2-8)、布儒斯特角起偏片(2-9)、第三1/4波片(2-10)、第一分光镜(2-4)、增益介质(2-5)、第二分光镜(2-14)、第四1/4波片(2-11)、补偿负透镜(2-12)和前腔镜(2-13)组成,该U形从动谐振腔中的增益介质(2-5)采用双端泵浦,一端依次由第一泵浦源(2-1)、第一泵浦耦合系统(2-2和2-3)和第一分光镜(2-4)组成,另一端由第二泵浦源(2-17)、第一泵浦耦合系统(2-16和2-15)和第二分光镜(2-14)组成;第一分光镜(2-4)和第二分光镜(2-14)都是对808nm的泵浦光高透,并且对1064nm的振荡激光高反;

所述的电学控制处理部分(3)由光电二极管(3-1)、紧固于后腔镜(2-6)的第一压电陶瓷(3-2)、紧固于所述的全腔镜(2-13)的第二压电陶瓷(3-3)、压电陶瓷驱动电源(3-4)和时序控制系统(3-5)组成,所述的压电陶瓷驱动电源(3-4)的输出端分别与第一压电陶瓷(3-2)和第二压电陶瓷(3-3)的输入端连接,所述的时序控制系统(3-5)的输入端与所述的光电二极管(3-1)的输出端相连,所述的时序控制系统(3-5)的输出端分别与所述的压电陶瓷驱动电源(3-4)的输入端、所述的调Q晶体KD*P(2-8)的控制端、第一泵浦源(2-1)和第二泵浦源(2-14)的控制端相连接;

所述的腔内倍频部分(4)由半波片(4-1)、第一分光镜(4-2)、倍频晶体(4-3)和第二分光镜(4-4)组成,所述的第一分光镜(4-2)或第二分光镜(4-4)为激光输出镜。

2.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的种子激光器(1-1)是一个连续输出的单纵模激光器,线宽在kHz量级,有很高的频率稳定性。

3.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的耦合透镜组(1-5和1-6)将种子光进行变换,使其在所述的U形从动腔谐振腔内任何地方的光斑大小与振荡光斑大小一致。

4.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的增益介质(2-5)为键合Nd:YAG晶体,两端不掺杂,中心掺杂区长度为30mm,掺杂浓度为0.3at.% ,利用热电制冷片(TEC)来控制增益介质的温度,以达到高的温控精度。

5.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的后腔镜(2-6)和前腔镜(2-13)都是平镜,它们对1064nm的透过率分别为5%和0。

6.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的第一泵浦源(2-1)和第二泵浦源(2-17)是峰值功率为150W中心波长808nm的两个高功率半导体激光器,都工作在脉冲方式。

7.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的第三1/4一波片(2-10)和第四1/4波片(2-11)通过合适的旋转角度来消除空间烧孔效应,形成各个纵模之间的抑制性竞争。

8.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的时序控制系统(3-5)在每个工作周期的起始点给第一泵浦源(2-1)和第二泵浦源(2-14)触发信号,二者输出808nm泵浦光到激光晶体上,压电陶瓷驱动电源在每个泵浦周期内在第二压电陶瓷(3-3)上施加一斜坡电压以改变从动腔腔长,当时序控制系统(3-5)检测到光电二极管(3-1)上的干涉信号的峰值时,打开调Q开关(2-7),随即输出单纵模激光,在每次出光之后所述的压电陶瓷驱动电源(3-4)给所述的第一压电陶瓷(3-2)加载一直流电压,以保持出光时间的稳定。

9.根据权利要求1所述的种子光注入的腔内倍频532nm单纵模激光器,其特征在于所述的倍频晶体(4-3)是三硼酸锂晶体(LBO),采用一类相位匹配。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210097219.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top