[发明专利]一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法无效
申请号: | 201210096806.6 | 申请日: | 2012-04-05 |
公开(公告)号: | CN102602921A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 徐志伟;陈磊;张瑶瑶;郭启微;陈光伟;王春红;钱晓明 | 申请(专利权)人: | 天津工业大学 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04;B82Y40/00 |
代理公司: | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人: | 庞学欣 |
地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便捷 高效 提高 氧化 石墨 间距 方法 | ||
【权利要求书】:
1.一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法,其特征在于:所述的便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法是将氧化石墨置于60Co的辐照源室内,然后在辐照剂量率为0.6×103Gy/h~6×103Gy/h,辐照剂量为1×105Gy~2×106Gy的条件下对其进行γ射线辐照,辐照时间为16~3000小时,使氧化石墨的表面剥离而形成石墨烯纳米片。
2.根据权利要求1所述的便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法,其特征在于:所述的辐照处理温度为0-80℃。
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