[发明专利]光刻设备和掩模优化过程与多重图案化过程的集成

权利要求书

1.一种将经由光刻过程被成像到衬底上的图案分割成多个子图案的方法，其中所述方法包括分割步骤，所述分割步骤配置成考虑在所述子图案中的至少一个和用于光刻过程的光刻设备的光学设定之间的共同优化的要求。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述分割步骤包括基于规则的分割、基于算法的分割、或基于规则的分割和基于算法的分割的组合。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述分割步骤和共同优化被依次、并行地、交替地或迭代地进行。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述考虑共同优化的分割步骤采用衍射标识分析，以从所述图案能够被分割成的、一组可行的子图案中选择所述多个子图案，使得获得所述被期望的成像结果。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述考虑共同优化的分割步骤采用在空间域中聚集的两维图案，以从所述图案能够被分割成的、一组可行的子图案中选择所述多个子图案，使得获得所述被期望的成像结果。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述考虑共同优化的分割步骤采用所述图案的频率信息和局部空间信息中的一者或两者，用于从所述图案能够被分割成的、一组可行的子图案中选择所述多个子图案，使得获得所述被期望的成像结果。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述子图案被依次成像到所述衬底上，同时被组合在所述衬底的单个层上。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述被期望的成像结果与用于所述已选择的多个子图案的预定的过程窗口相关联。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述光刻设备的光学设定包括下述中的一个或更多个：照射源的设定和特性；投影光学装置系统的设定和特性；和照射源和投影光学装置系统的组合的设定和特性。

10.根据权利要求1所述的方法，其中图案选择方法用于从相对较大的组选择包括所述图案的设计布局的部分的代表性的较小的组，其中所述代表性的较小的组足以覆盖所述相对较大的组的特性图案特征，使得加速所述共同优化过程。

11.根据权利要求1所述的方法，其中已知的光学设定用于产生用于分割所述图案的规则，使得所述多个子图案中的每一个包括配置成处于所述光刻设备的分辨率极限内的特征。

12.根据权利要求1所述的方法，其中光学邻近效应校正(OPC)被执行以在光学设定由于所述共同优化而被固定之后进一步优化所述子图案。

13.根据权利要求1所述的方法，其中在验证过程期间识别热点和暖点，所述验证过程遵循共同优化的至少一个迭代循环。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所识别的热点和暖点被反馈到在所述分割步骤中使用的图案分割算法中。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所识别的热点和暖点被反馈到图案选择算法中，所述图案选择算法从相对较大的组选择包括所述图案的设计布局的部分的代表性的较小的组，其中所述代表性的较小的组足以覆盖所述相对较大的组的特性图案特征，使得所述随后的共同优化过程被加快。