[发明专利]新型脑室分流管压力控制阀无效

专利信息
申请号: 201210086880.X 申请日: 2012-03-26
公开(公告)号: CN103357110A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 赵东升;陈静;姬西团;黄钢 申请(专利权)人: 中国人民解放军第四军医大学
主分类号: A61M39/22 分类号: A61M39/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710032 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 新型 脑室 流管 压力 控制
【说明书】:

技术领域

发明设计一种神经外科手术用的医疗器械,特别是一种治疗脑积水用的新型脑室分流管压力调控阀门,该阀门不仅可以机械式的随意调控分流管内压,而且不受磁力场影响,不受磁共振检查的限制。

背景技术

自Kausch首次应用脑室一腹腔分流术(V-P分流术)治疗脑积水以来已近百年。V-P分流术用于治疗脑积水为许多患者解决了病痛并挽救了不少生命,分流装置的不断完善以及分流技术的不断改进伴随着分流术发展的始终,其目的就是最大限度地减少分流术的并发症。尽管如此,各式各样地分流故障还是陆续出现,使之成为脑积水治疗中最大的障碍。有学者回顾分流术的50年历史时指出,分流术1年失败率为40%,2年失败率达50%,其中分流过度就是非常常见的原因之一。如果分流管内压过低而没有及时调压,就容易引发分流过度,分流过度易引起硬膜下血肿、低颅压综合症或脑室裂隙综合症,如果症状严重,常需要再次手术拔出分流管或者结扎分流管,待颅内情况好转后再次手术放置或松解分流管,如果这样,一位患者可能需要经历3次甚至更多次的手术,不仅给患者心身造成痛苦,而且增加了患者的经济负担和手术风险。另外,人体颅内压会随着体位变化而变化,国外学者Alperin等对健康志愿者的仰卧位和坐位等不同姿势的脑脊液循环动力学差异进行了研究,发现坐位的脑血流量和脑脊液流量较仰卧位分别下降12%和58%,相应颅内压也有明显下降。另有学者Bouzerar等提出脑室形态结构上的不稳定,常常能影响到脑脊液循环动力学的稳定性,而脑室的形态常常受室管膜弹性和脑脊液表面张力的影响。在生理条件下,脑脊液生成部位(侧脑室)与吸收部位(静脉窦)之间没有明显的流体静水压,因而脑脊液循环不受体位变化的影响。然而当行V-P分流术后,由于重力的作用,脑室与腹腔之间产生了大约60~80cmH2O压力差,从而加快了分流管内液体的流动,易诱发分流过度。

为了防止分流过度给患者带来的痛苦,临床上已发明了各种各样的可调压分流管,其调压阀门可根据术后复查的影像学表现分次调整,但因为现有的调压阀门多与磁力有关,会受到磁共振检查的影响,另外每次调节阀门压力都需要厂家携带特定的仪器进行调压,如果术后突发分流过度,或患者出院后发生分流过度,那么调压将非常不方便。如果分流术后发生分流过度,导致硬膜下出血、低颅压综合症或脑室裂隙综合症等情况,常需要暂时关闭分流管,而现有的可调压阀门不能达到这一目的。另外,现在临床上常使用的分流管装置多是国外进口,价格较贵,这也为患者增加了经济负担,从而也限制了它的广泛应用。

发明内容

为了克服现有的分流管容易分流过度、调压阀门易受磁力影响、调压不方便等缺点。本发明提供了一种新型脑室分流管压力控制阀。该分流管压力控制阀是机械式操作,不受磁力的影响,根据需要随时随处都可以调节分流管内压力,并且可以根据需要关闭分流管。根据体位变化,阀门内压会随之变化,从而使脑脊液流出较恒定。该分流管不仅价格便宜,而且操作方便,即使在基层医院甚至患者自己都可以调整,可以达到临床脑积水分流术后压力控制的各种要求,降低了医疗成本,也避免了再次手术的风险,提高了分流手术的成功率。

本发明解决其技术问题采用的技术方案是:新型脑室分流管压力控制阀是在一个长2cm×宽2cm×高0.8cm的硬质聚丙烯塑料底座上安装两枚储液囊,两枚储液囊中间相通,两边各有一个分流管接口。一枚椭圆形储液囊一端开口与分流管相连,一端开口设计有六条挡板,在该储液囊内增加一个钛合金球,球体可以在储液囊内自由滚动,球体滚落后可被挡板挡住,但不会封闭储液囊出口,该处开口与长方体储液囊相通。长方体储液囊内部增设一条软质隔板,在隔板外侧增设一个控压阀,该控压阀为镰刀形状的长方体旋钮,旋钮一端圆润可以在软质挡板上滑动,一端设有圆形立柱,可以手指捏住圆形立柱转动控压阀,因为软质隔板被控压阀挤压后储液囊内压增大,容积减小,所以分流管内液体流速会随之降低。控压阀外面安装一个保护膜使其与脂肪等组织隔离,控压阀可以在保护膜的保护下来回旋转。保护膜下端底座上标记有2个稍突起的刻度标记,其值是指30度°、60度°。控压阀底座为硬质聚丙烯塑料底座,对人体无伤害,可缝合于胸部皮下肌肉筋膜层。硬质聚丙烯塑料底座上嵌有不透X线的流向指示符,可以在X线下显影。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军第四军医大学,未经中国人民解放军第四军医大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210086880.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top