[发明专利]二次电池有效
申请号: | 201210082394.0 | 申请日: | 2012-03-26 |
公开(公告)号: | CN102694208A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 芹泽慎;高桥浩雄;川崎大辅;入山次郎;笠原龙一;藤井惠美子;梶田彻也;沼田达治 | 申请(专利权)人: | 日本电气株式会社 |
主分类号: | H01M10/0585 | 分类号: | H01M10/0585;H01M4/13 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 梁晓广;关兆辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二次 电池 | ||
1.一种二次电池,包括:叠层电极体,所述叠层电极体设有至少一对正电极和负电极;和外壳,所述外壳容纳所述叠层电极体,
其中所述外壳包括一个或更多个凹进部分,所述一个或更多个凹进部分在对应于所述叠层电极体的最外层的电极表面的外边缘的边界的内部,在面对所述电极表面的表面上,以及
其中,当具有所述边界的内部面积的一半面积的带形外周区域被设置在所述边界的内部时,所述凹进部分中的至少一个凹进部分位于所述外周区域的内部。
2.根据权利要求1所述的二次电池,其中所述外周区域在所述边界的向内方向上保持均匀间隔的宽度。
3.根据权利要求1所述的二次电池,其中由在所述外周区域的内部的所述凹进部分占据的面积与由在所述边界的内部的所述凹进部分占据的面积的比率是30%或更大。
4.根据权利要求1所述的二次电池,其中接触所述边界的所述凹进部分的比率是30%或更大。
5.根据权利要求1所述的二次电池,其中接触所述边界和所述外周区域的内边缘的所述凹进部分的比率是30%或更大。
6.根据权利要求1所述的二次电池,其中由在所述外周区域中的所述凹进部分占据的面积与所述外周区域的面积的比率是1至80%。
7.根据权利要求1所述的二次电池,其中所述凹进部分的高度与所述叠层电极体的厚度的比率是1至500%。
8.根据权利要求1所述的二次电池,其中所述外壳是叠层外壳。
9.根据权利要求8所述的二次电池,其中所述叠层电极体包括在最外层的电极表面上的凸起部分,并且
所述凹进部分形成为与所述凸起部分相对应。
10.一种制造二次电池的方法,所述二次电池包括:叠层电极体,所述叠层电极体设有至少一对正电极和负电极;以及外壳,所述外壳容纳所述叠层电极体,所述方法包括:
制备外壳,所述外壳设有一个或更多个凹进部分,所述一个或更多个凹进部分在对应于所述叠层电极体的最外层的电极表面的外边缘的边界的内部,在面对所述电极表面的表面上;其中,当具有所述边界的内部面积的一半面积的带形外周区域被设置在所述边界的内部时,所述凹进部分中的至少一个凹进部分位于所述外周区域的内部;以及
将所述叠层电极体容纳在所述外壳中。
11.根据权利要求10所述的制造二次电池的方法,其中所述外周区域在所述边界的向内方向上保持均匀间隔的宽度。
12.根据权利要求10所述的制造二次电池的方法,其中由在所述外周区域的内部的所述凹进部分占据的面积与由在所述边界的内部的所述凹进部分占据的面积的比率是30%或更大。
13.根据权利要求10所述的制造二次电池的方法,其中接触所述边界的所述凹进部分的比率是30%或更大。
14.根据权利要求10所述的制造二次电池的方法,其中接触所述边界和所述外周区域的内边缘的所述凹进部分的比率是30%或更大。
15.根据权利要求10所述的制造二次电池的方法,其中由所述外周区域的内部的所述凹进部分占据的面积与所述外周区域的面积的比率是1至80%。
16.根据权利要求10所述的制造二次电池的方法,其中所述凹进部分的高度与所述叠层电极体的厚度的比率是1至500%。
17.根据权利要求10所述的制造二次电池的方法,其中所述外壳是叠层外壳。
18.根据权利要求17所述的制造二次电池的方法,其中制备所述外壳包括通过挤压在所述外周区域中形成所述凹进部分。
19.根据权利要求17所述的制造二次电池的方法,其中所述叠层电极体包括在所述最外层的电极表面上的凸起部分,
制备所述外壳包括形成与所述凸起部分相对应的所述凹进部分。
20.根据权利要求19所述的制造二次电池的方法,其中通过使用滚子或金属模具冲压所述叠层电极体的所述最外层的电极表面而形成所述凸起部分。
21.根据权利要求19所述的制造二次电池的方法,其中通过在充电/放电期间所述电极的不均匀膨胀或收缩而形成所述凸起部分。
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