[发明专利]液位传感器无效

专利信息
申请号: 201210081567.7 申请日: 2012-03-26
公开(公告)号: CN102607672A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 欧阳胜红 申请(专利权)人: 哈姆林电子(苏州)有限公司
主分类号: G01F23/62 分类号: G01F23/62
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 陆明耀;陈忠辉
地址: 215121 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 传感器
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种液位传感器,尤其涉及一种浮球式液位传感器。

背景技术

目前,浮球式液位传感器主要由浮球、磁铁和干簧管等部件组成,该种液位传感器是利用浮球随着液位同步变化,浮球带动磁铁位移,通过磁铁的位移进一步控制干簧管的开关。现有的浮球式液位传感器由于要放置入水箱中,常常采用密封垫来对容置干簧管的空腔进行防水处理,但是时间一长,空腔里面的空气会氧化干簧管的引脚,使整个产品失去功能,降低其使用寿命。

发明内容

鉴于上述现有技术存在的缺陷,本发明的目的是提出一种具有良好防水效果和延长使用寿命的液位传感器。

本发明的目的将通过以下技术方案得以实现:

一种液位传感器,包括一浮球,所述浮球与一浮力支架的底部连接,所述浮力支架的顶部设有磁铁;所述浮力支架为中空结构,并且可相对滑动地套接于一主管的外侧;所述主管具有顶部开口的空腔,所述空腔内设置有一干簧管,所述干簧管通过电线与一控制终端连接,所述空腔的剩余空间填充有防水密封材料;所述主管的顶部一体成型有一底座,所述底座上设有用于固定所述液位传感器的安装孔。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述底座下方的主管的外壁设有用于与所述浮力支架的顶部相抵接触而止位的限位凸块。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述限位凸块与所述主管一体成型。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述限位凸块为环形。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述浮力支架上设有至少一个的镂空槽,所述镂空槽与所述浮动支架相对滑动的方向一致,所述主管的底部设有与所述镂空槽对应的限位插销,所述限位插销伸出所述镂空槽。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述主管的外壁设有用于与所述浮力支架的顶部相抵接触而止位的限位凸块;所述浮力支架上设有至少一个的镂空槽,所述镂空槽与所述浮动支架相对滑动的方向一致,所述主管的底部设有与所述镂空槽对应的限位插销,所述限位插销伸出所述镂空槽。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述电线外围套设有PVC套管,所述PVC套管的一端与所述主管抵接,另一端与一连接于所述电线上的结带抵接。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述磁铁上覆盖有磁铁帽。

优选的,上述的液位传感器,其中:所述磁铁为环形磁铁。

本发明的突出效果为:本发明装有干簧管的空腔的剩余空间采用防水密封材料进行填充,达到防水效果,同时也有效防止空腔里面的空气氧化干簧管的引脚,延长了干簧管的使用寿命;加设的限位凸块、限位插销等可限定液位传感器的工作范围,防止浮球与主管脱离;电线外围还增加了PVC套管,有效保护电线。

以下便结合实施例附图,对本发明的具体实施方式作进一步的详述,以使本发明技术方案更易于理解、掌握。

附图说明

图1是本发明实施例的剖视图;

图2是本发明实施例的立体结构示意图;

图3是本发明实施例的主视图;

图4是本发明实施例的侧视图。

具体实施方式

实施例:

本实施的一种液位传感器,如图1~图4所示,包括浮球1,浮球1与浮力支架2的底部连接,浮力支架2的顶部设有磁铁3;磁铁3为环形磁铁,磁铁3上覆盖有磁铁帽4。浮力支架2为中空结构,并且可相对滑动地套接于主管5的外侧;主管5具有顶部开口的空腔,空腔内设置有干簧管6,干簧管6通过电线7与控制终端8连接;空腔的剩余空间填充有防水密封材料。主管5的外壁设有用于与浮力支架2的顶部相抵接触而止位的限位凸块51,限位凸块51为环形,并与主管5一体成型。浮力支架2上相对设有两个镂空槽21,镂空槽21与浮动支架2相对滑动的方向一致,主管5的底部设有两个与镂空槽21对应的限位插销52,限位插销52伸出镂空槽21。主管5的顶部一体成型有底座53,底座53上设有安装孔54,用于将该液位传感器固定于水箱顶部。电线7外围套设有PVC套管71, PVC套管71的一端与主管5抵接,另一端与连接于电线7上的结带72抵接,从而达到限位的目的。

本实施例装有干簧管6的空腔的剩余空间采用防水密封材料进行填充,达到防水效果,同时也有效防止空腔里面的空气氧化干簧管6的引脚,延长了干簧管6的使用寿命;加设的限位凸块51、限位插销52等可限定液位传感器的工作范围,防止浮球1与主管5脱离;电线7外围还增加了PVC套管71,有效保护电线7。

本发明尚有多种实施方式,凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案,均落在本发明的保护范围之内。

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