[发明专利]光刻用冲洗液有效
| 申请号： | 201210078008.0 | 申请日： | 2005-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102591160A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 越山淳;胁屋和正;金子文武;宫本敦史;泽田佳宏;田岛秀和 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/26;C08F226/10;C08F226/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 贾静环 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 冲洗 | ||
【权利要求书】：
1.含有在分子结构中包含氮原子的水溶性树脂的溶液用于光刻用冲洗液的用途，其中，该水溶性树脂是乙烯基吡咯烷酮和乙烯基咪唑的共聚物。
2.权利要求1所述的光刻用冲洗液的用途，其中，水溶性树脂具有500～1,500,000的重均分子量。
3.权利要求1所述的光刻用冲洗液的用途，其中，以总量为基准至少含有0.1ppm浓度的水溶性树脂。
4.一种抗蚀图案形成方法，其中，该方法进行以下工序：
(A)在基板上设置光致抗蚀剂膜的工序、
(B)为了通过掩模图案对该光致抗蚀剂膜进行选择性形成潜像而进行曝光处理的工序、
(C)对经过曝光处理的光致抗蚀剂膜进行曝光后的加热处理即PEB处理的工序、
(D)对经过PEB处理的光致抗蚀剂膜进行碱性显影处理的工序、以及
(E)用含有在分子结构中包含氮原子的水溶性树脂的溶液处理经过显影处理的光致抗蚀剂膜的工序，其中，该水溶性树脂是乙烯基吡咯烷酮和乙烯基咪唑的共聚物。
5.权利要求4所述的抗蚀图案形成方法，其中进行该(E)工序后，再进行(F)使用纯水进行冲洗处理的工序。
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