[发明专利]一种硅基微型侧喷口合成射流器及其制作方法

权利要求书

1.一种硅基微型侧喷口合成射流器，从上往下依次包括玻璃片9、硅基体10和驱动装置；硅基体10上的不贯穿孔形成腔体8；所述腔体8通过硅基体10侧壁上的喷口1与外界连通；硅基体10上腔体8的不贯穿部分形成悬置膜片2；驱动装置使得悬置膜片2产生振动；其特征在于：所述喷口1为非双锥形的侧喷口。

2.一种如权利要求1所述的硅基微型侧喷口合成射流器，其特征在于：所述喷口1的水平截面轮廓为矩形，同时所述喷口1的中心线垂直于腔体8侧壁。

3.一种如权利要求1所述的硅基微型侧喷口合成射流器，其特征在于：所述喷口1的水平截面轮廓为平行四边形，同时所述喷口1的中心线与腔体8侧壁夹角为45°。

4.一种如权利要求1所述的硅基微型侧喷口合成射流器，其特征在于：所述喷口1的水平截面轮廓为弧形，同时所述喷口1的中心线通过腔体8圆心。

5.一种如权利要求1所述的硅基微型侧喷口合成射流器，其特征在于：所述喷口1的水平截面轮廓为小端位于外壁的单锥形。

6.一种如权利要求1所述的硅基微型侧喷口合成射流器，其特征在于：所述喷口1的水平截面轮廓为小端位于外壁的弧形。

7.一种如权利要求1所述的硅基微型侧喷口合成射流器，其特征在于：所述喷口1的水平截面轮廓为轴对称双曲线。

8.一种如权利要求1～7所述之一的硅基微型侧喷口合成射流器，其特征在于：所述喷口1外端面x方向长度为0.5mm～3mm，y方向长度是100μm～200μm，z方向长度是100μm～180μm。

9.一种如权利要求1所述的硅基微型侧喷口合成射流器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：采用低压化学气相沉积法在硅基体2上表面溅射一层金属膜；

步骤2：在金属膜上光刻形成掩膜；

步骤3：刻蚀金属膜；

步骤4：采用感应耦合等离子刻蚀形成侧喷口1、腔体8和悬置膜片2；

步骤5：在硅基体10上制作驱动装置11；

步骤6：玻璃片9与硅基体10进行粘合。

步骤7：划片。