[发明专利]一种纳米硅玻璃微波涂料的制备方法无效
申请号: | 201210074379.1 | 申请日: | 2012-03-20 |
公开(公告)号: | CN102627882A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 庞伟 | 申请(专利权)人: | 庞伟 |
主分类号: | C09D7/14 | 分类号: | C09D7/14;C09D133/26;C09D7/12;C03C17/32;B82Y40/00 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710064 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 玻璃 微波 涂料 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种纳米涂料,具体涉及一种纳米硅玻璃微波涂料的制备方法。
背景技术
目前,现有的玻璃分子在结晶时会出现玻璃分子间的结构张力,使玻璃表面存在超细微孔及分子间的张力,造成光伏玻璃因在太阳光照射时,不能阻挡超短波长的紫外线,使光电转换材料的快速老化,由分子间的张力造成玻璃分子间形成电势差异,导致微小颗粒因静电子团形成而吸附在玻璃表面形成污垢和尘埃层出不穷,给清洁造成困难。
发明内容
本发明的目的在于提供一种纳米硅玻璃微波涂料的制备方法,按本发明的制备方法制成的涂料能够改变玻璃表面的分子结构,提高玻璃透光性,减少紫外线在玻璃的穿透性,提高了玻璃的透光率,以及玻璃表面分子的张力,从而提高玻璃自清洁能力。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:
1)粗磨:取5μm-15μm的单晶硅粒并向其中加入单晶硅质量1.8-2.2倍的聚丙烯酰胺研磨得到0.1μm-0.5μm的单晶硅粒;
2)一道精磨:向粗磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.4-0.6倍的六偏磷酸钠进行研磨,得到0.05-0.1μm的单晶硅粒;
3)二道精磨:向一道精磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.4-0.6倍的碳酸钠、0.4-0.6倍的聚环氧乙烷进行研磨,得到0.01-0.08μm的单晶硅粒;
4)三道精磨:向二道精磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.4-0.6倍的磺酸、0.4-0.6倍的碳酸钠进行研磨,得到0.001μm-0.005μm的纳米单晶硅;
5)向三道精磨后的纳米单晶硅中通入氦气进行分散干燥得到纳米级硅粉;
6)向干燥后的纳米级硅粉中加入纳米级硅粉质量30-40%的烷醇酰胺、9-11倍的磺酸和9-11倍的亚硫酸钠搅拌混合均匀得纳米硅玻璃微波涂料。
所述步骤6)的搅拌混合是在曲臂式搅拌机内混合。
整个制备过程环境温度不超过20℃。
所述的研磨采用带有冷却系统的研磨机,且研磨机内温度不超过15℃。
本发明采用最新纳米生产技术,对单晶硅进行超微小粉碎,能将单晶硅微粉的孔径控制在1-5纳米之间,并通过分散剂,扩散剂的作用,将纳米硅进行单颗粒分散,并在抗沉淀积剂和抗静电剂作用下,使分散纳米硅单体不会沉积而形成大颗粒沉淀,并能够在玻璃表面将玻璃分子在结晶形成时产生的分子间隙进行填充,使玻璃表面更加平整和均值,从而提高了透光性减少了紫外线穿透,能够阻挡紫外线(180埃-265埃波长)的穿透,减少了静电粒子的产生,提高了自清洁能力。
具体实施方式
实施例1:
1)粗磨:取5μm-15μm的单晶硅粒并向其中加入单晶硅质量1.8倍的聚丙烯酰胺研磨得到0.1μm-0.5μm的单晶硅粒;
2)一道精磨:向粗磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.5倍的六偏磷酸钠进行研磨,得到0.05-0.1μm的单晶硅粒;
3)二道精磨:向一道精磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.4倍的碳酸钠、0.6倍的聚环氧乙烷进行研磨,得到0.01-0.08μm的单晶硅粒;
4)三道精磨:向二道精磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.4倍的磺酸、0.5倍的碳酸钠进行研磨,得到0.001μm-0.005μm的纳米单晶硅;
5)向三道精磨后的纳米单晶硅中通入氦气进行分散干燥得到纳米级硅粉;
6)向干燥后的纳米级硅粉中加入纳米级硅粉质量35%的烷醇酰胺、9倍的磺酸和10倍的亚硫酸钠在曲臂式搅拌机内搅拌均匀得纳米硅玻璃微波涂料。
整个制备过程环境温度不超过20℃。
所述的研磨采用带有冷却系统的研磨机,且研磨机内温度不超过15℃。
实施例2:
1)粗磨:取5μm-15μm的单晶硅粒并向其中加入单晶硅质量2.0倍的聚丙烯酰胺研磨得到0.1μm-0.5μm的单晶硅粒;
2)一道精磨:向粗磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.6倍的六偏磷酸钠进行研磨,得到0.05-0.1μm的单晶硅粒;
3)二道精磨:向一道精磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.5倍的碳酸钠、0.5倍的聚环氧乙烷进行研磨,得到0.01-0.08μm的单晶硅粒;
4)三道精磨:向二道精磨后的单晶硅粒中加入单晶硅粒质量0.6倍的磺酸、0.4倍的碳酸钠进行研磨,得到0.001μm-0.005μm的纳米单晶硅;
5)向三道精磨后的纳米单晶硅中通入氦气进行分散干燥得到纳米级硅粉;
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