[发明专利]一种改进的P-RC APMP新流程无效
申请号: | 201210064386.3 | 申请日: | 2012-03-13 |
公开(公告)号: | CN102561080A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 周小凡;徐家祥;马金霞 | 申请(专利权)人: | 南京林业大学 |
主分类号: | D21B1/02 | 分类号: | D21B1/02;D21B1/34;D21C3/02;D21D1/20;D21C9/16;D21C9/18;D21D5/02;D21C9/02 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改进 rc apmp 流程 | ||
一、技术领域:
本发明涉及一种改进的P-RC APMP制浆新流程。
二、背景技术:
P-RC APMP是化学机械浆中的经典制浆流程,P-RC APMP制浆工艺流程为:将长度15~20mm、厚度3~5mm、宽度小于10mm的木片经水洗涤去除泥沙;使用斜螺旋脱水机使木片干度达到30~40%;利用压缩比为1∶4.0的挤压撕裂机将木片挤压成木丝状;将挤压后木片浸渍于含有螯合剂(DTPA)、硫酸镁、硅酸钠、占总用量20~40%的碱性过氧化氢溶液,进入反应仓反应30~60min;反应后浆料在35~40%的浓度下进行一次高浓磨浆;磨浆后进入高浓混合器与含有螯合剂(DTPA)、硫酸镁、硅酸钠、占总用量60~80%的碱性过氧化氢溶液混合,进入漂白塔反应1.5~2.0h,漂白浓度为30~35%;漂白结束后稀释至浓度为3~6%进入消潜池,消潜后在3~6%的浓度下进行二次低浓磨浆;磨后浆在2~4%的浓度下进行三段筛选;筛选后浆料经过多盘洗浆机进行浆料洗涤;最后稀释浆料浓度为4.5~10%备用。
P-RC APMP制浆过程使用过氧化氢作为漂白剂,碱性过氧化氢漂白是保留木素的漂白,伴随着漂白过程会产生漂白废液,废液中含有过氧化氢与木素、果胶反应生成的氧化木素和聚半乳糖醛酸,以及磨浆和漂白过程中所分散或溶出的树脂酸和脂肪酸胶体等阴离子垃圾。在一段浸渍后的反应仓与二次浸渍的漂白塔中产生的漂白废液进入3~6%的低浓消潜池后,浓度被稀释,导致多盘洗浆机的洗涤负荷过重,对浆料的洗涤不彻底,大量的阴离子垃圾滞留在浆料中。而这些带负电荷的聚半乳糖醛酸,木素大分子和抽出物的分散胶粒会随浆进入抄纸系统,能够在纸机的白水系统中累积,降低助留助滤剂的功效,增加湿部系统阴离子垃圾捕集剂的用量,给湿部运行带来不稳定性。
三、发明内容:
本发明提供一种改进的P-RC APMP新流程,能够将反应仓与漂白塔中产生的80%~95%漂白废液提取出来送碱回收处理,提取过程用水量少,且提取的废液固含量高,在4.0%~8.0%;既能减少废液碱回收浓缩过程中的蒸汽用量,又能减轻浆在后续洗涤工段的洗涤负荷,同时大大减少阴离子垃圾在抄纸工段对纸机湿部的负影响。
为了实现上述目的,本发明的技术方案是:
1、木片洗涤:将长度15~20mm、厚度3~5mm、宽度小于10mm的木片经水洗涤去除泥沙;
2、木片脱水、挤压撕裂:使用斜螺旋脱水机使木片干度达到35~40%;利用压缩比为1∶4.0的挤压撕裂机将木片挤压成木丝状;
3、一段浸渍:将挤压后木片浸渍于含有螯合剂(DTPA)、硫酸镁、硅酸钠、占总用量20~ 40%的碱性过氧化氢溶液,进入反应仓反应30~60min;
4、一段高浓磨浆:反应仓后浆料在35~40%的浓度下进行一次高浓磨浆;
5、高浓漂白塔:磨后浆进入高浓混合器与含有螯合剂(DTPA)、硫酸镁、硅酸钠、占总用量60~80%的碱性过氧化氢溶液混合,进入漂白塔反应1.5~2.0h,漂白浓度在30~35%;
6、三台或四台串联双螺旋挤浆机提取废液:漂白后浆使用三台或四台串联的双螺旋挤浆机提取废液,每台双螺旋挤浆机的进口浓度在15%~25%,出口浓度在35%~40%,从最后一台加入清水,废液总提取率为80~95%,提取的废液固形物含量为4.0~8.0%,废液送碱回收处理;
7、消潜、低浓磨浆:浆料稀释至浓度为3~6%进入消潜池,消潜后在2~4%的浓度下进行二次低浓磨浆;
8、筛选:磨后浆在2~4%的浓度下进行三段筛选;
9、洗涤:筛选后浆在1%~2%浓度下经过多盘洗浆机洗涤;
10、储浆备用:将洗涤后浆料干度调至4.5~10%备用;
四、附图说明
图1、图2为改进的P-RCAPMP工艺新流程简图。
五、具体实施方式
实施例一:本发明改进的P-RC APMP工艺新流程结合图1说明如下:
1、木片洗涤:将长度15~20mm、厚度3~5mm、宽度小于10mm的木片经水洗涤去除泥沙;
2、木片脱水、挤压撕裂:使用斜螺旋脱水机使木片干度达到35~40%;利用压缩比为1∶4.0的挤压撕裂机将木片挤压成木丝状;
3、一段浸渍:将挤压后木片浸渍于含有螯合剂(DTPA)、硫酸镁、硅酸钠、占总用量20~40%的碱性过氧化氢溶液,进入反应仓反应30~60min;
4、一段高浓磨浆:反应仓后浆料在35~40%的浓度下进行一次高浓磨浆;
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