[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

衬底台，所述衬底台包括保持器，所述保持器配置成将衬底保持在保持平面内；

投影系统，所述投影系统配置成当衬底台被定位在曝光区域内时将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；

支撑投影系统的基本上隔离振动的框架；

衬底台位置测量系统，所述衬底台位置测量系统配置成测量衬底台的位置，其中所述衬底台位置测量系统包括：

衬底台参考元件，所述衬底台参考元件布置在衬底台上，和

第一传感器头，所述第一传感器头配置成确定第一传感器头相对于衬底台参考元件的位置，其中所述衬底台参考元件在基本上平行于保持平面的测量平面内延伸，并且其中所述保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头在衬底台位于曝光位置时布置在测量平面的相对侧，

传感器框架，所述传感器框架安装在光刻设备的子框架上，以及第一传感器头安装在传感器框架上；

投影系统位置测量系统，所述投影系统位置测量系统配置成测量投影系统的位置，所述投影系统位置测量系统包括投影系统参考元件和传感器组件，用以确定传感器组件相对于投影系统参考元件的位置，和

其中传感器组件和投影系统参考元件的一个安装在投影系统上，以及传感器组件和投影系统参考元件的另一个安装在传感器框架上。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述子框架是基本上隔离振动的框架。

3.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述传感器框架通过静态地确定的结构安装在子框架上。

4.如权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，设置有附加的位置测量系统，用于测量衬底台位置测量系统的至少一部分相对于投影系统位置测量系统的至少一部分的位置。

5.如权利要求1所述的光刻设备，其中衬底台参考元件和/或一个或多个投影系统测量元件包括格栅或光栅。

6.如权利要求1所述的光刻设备，其中第一传感器头配置成在六个自由度上测量衬底台的位置和/或其中传感器组件配置成在六个自由度上测量投影系统的位置。

7.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述第一传感器头包括配置成测量在测量平面内第一方向上的位置的第一和第二编码器传感器，和配置成测量在测量平面内基本上垂直于第一方向的第二方向上的位置的第三编码器传感器，以及其中第一传感器头包括配置成测量基本上垂直于测量平面的方向上的位置的三个干涉仪传感器。

8.如权利要求1所述的光刻设备，其中传感器组件包括配置成测量投影系统在径向方向上相对于投影系统的光轴的位置的第一位置传感器、配置成测量投影系统在切向方向上相对于投影系统的光轴的位置的第二位置传感器以及配置成测量投影系统在径向方向上或在切向方向上相对于投影系统的光轴的位置的第三位置传感器，以及其中传感器组件还包括三个另外的位置传感器，用以测量基本上平行于投影系统的光轴的方向上的位置。

9.如权利要求1所述的光刻设备，其中在衬底台的曝光位置上，保持平面布置在测量平面之上并且第一传感器头布置在测量平面之下。

10.如权利要求1所述的光刻设备，其中光刻设备包括一个或多个遮蔽框架，所述一个或多个遮蔽框架包括遮蔽材料，所述遮蔽材料至少部分地覆盖和/或包围传感器框架、第一传感器头和/或传感器组件。

11.如权利要求1所述的光刻设备，其中光刻设备包括一个或多个被动的和/或主动的阻尼件，所述阻尼件配置成阻尼传感器框架的移动。

12.如权利要求1所述的光刻设备，其中光刻设备包括测量区域，所述测量区域包括配置成当衬底台定位在测量位置时执行对准和聚焦测量的一个或多个聚焦传感器和对准传感器，其中光刻设备包括配置成测量在测量位置的衬底台的位置的第二传感器头、配置成测量对准传感器和一个或多个聚焦传感器的位置的第二传感器组件以及配置成支撑第二传感器头和第二传感器组件的第二传感器框架。

13.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中衬底台参考元件包括与衬底台的至少一部分相同的材料。

14.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，包括干涉仪系统，所述干涉仪系统测量衬底位置测量系统相对于投影系统位置测量系统的位置。

15.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，包括附加的位置测量系统，用于测量在衬底的顶侧的衬底或衬底台在Z、Rx和/或Rz上的位置。