[发明专利]液体喷射装置有效
| 申请号： | 201210054203.X | 申请日： | 2012-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN102653182A | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 小阿瀬崇;小林洋一;佐佐木恒之;福田真子 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/21 | 分类号： | B41J2/21 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 黄威;孙丽梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 液体 喷射 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种液体喷射装置，其特征在于，具有：
液体喷射头，其具有向记录介质喷射液体的喷嘴；
滑架，其保持所述液体喷射头，并使所述液体喷射头相对于所述记录介质相对地进行扫描；
照射单元，其横跨所述滑架的扫描方向而被设置在所述滑架的垂直上方，并向所述记录介质照射红外线；
对流生成单元，其横跨所述滑架的扫描方向而被设置在所述滑架的垂直上方，并在所述记录介质上生成对流；
隔壁，其被设置在所述照射单元与所述对流生成单元之间。
2.如权利要求1所述的液体喷射装置，其特征在于，
所述隔壁与所述滑架一体地被设置。
3.如权利要求1所述的液体喷射装置，其特征在于，
所述隔壁横跨所述滑架的扫描方向而被设置。
4.如权利要求1至权利要求3中任一项所述的液体喷射装置，其特征在于，
所述对流生成单元生成向所述记录介质施加正压的对流。
5.如权利要求1至权利要求3中任一项所述的液体喷射装置，其特征在于，
所述对流生成单元生成向所述记录介质施加负压的对流。
6.如权利要求1至权利要求5中任一项所述的液体喷射装置，其特征在于，
在所述滑架以及所述隔壁上具有反射红外线的表层。
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