[发明专利]紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的方法有效
申请号: | 201210053699.9 | 申请日: | 2012-03-03 |
公开(公告)号: | CN103286694A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 宋孝宗;龚俊;杨东亚;段红燕;王继波 | 申请(专利权)人: | 兰州理工大学 |
主分类号: | B24C1/00 | 分类号: | B24C1/00 |
代理公司: | 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 | 代理人: | 董斌 |
地址: | 730050 *** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外 光诱导 纳米 颗粒 胶体 射流 进行 光滑 表面 加工 方法 | ||
1.紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的方法,其步骤为:
(1)选用波长在200-400nm的紫外光作为反应激励光源;
(2)按特定成分及组分配制所需的纳米颗粒胶体,开启增压装置,对所配制的纳米颗粒胶体进行加压;
(3)打开紫外光源,调节紫外光聚焦系统,使紫外光束以平行光通过光-液耦合喷嘴后按所需光斑直径聚焦于光-液耦合喷嘴的喷嘴口。
(4)开启控制开关,使纳米颗粒胶体进入光-液耦合喷嘴内,与通过光-液耦合喷嘴的紫外光束发生光-液耦合;
(5)紫外光束耦合胶体射流束作用在工件表面,与工件表面发生光催化界面反应,控制工件运动,实现脆硬材料工件的超光滑表面加工。
2.根据权利要求1所述的紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的紫外光源为低压、中亚、高压汞灯或其他发射紫外光波段的设备,紫外光的波长在200-400nm的范围内。
3.根据权利要求2所述的紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的紫外光束光斑可调直径范围为0.1~2mm,紫外光束中心辐照强度在0.01-100mW/cm2。
4.根据权利要求1所述的紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的纳米颗粒胶体由质量分数在0.5~25%的纳米颗粒、74~99%的去离子水、0.1~0.25%的pH值调节剂、0.25~0.5%的表面活性剂配制而成,其中所述的纳米颗粒的粒径在10nm-40nm范围。
5.根据权利要求4所述的紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的纳米颗粒胶体的密度在1.01~1.50×103kg/m3范围内,其动力粘度在0.002~0.025N·s/m2范围内、pH值在6~11范围内。
6.根据权利要求4所述的纳米颗粒胶体的配制成分及组分,其特征在于所述的纳米颗粒为无机纳米颗粒。
7.根据权利要求6所述的紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工 的方法,其特征在于所述的无机纳米颗粒为纳米二氧化钛颗粒、纳米二氧化硅颗粒、纳米氧化铈颗粒、纳米氧化铝颗粒以及上述无机纳米颗粒间的配对组合。
8.根据权利要求4所述的纳米颗粒胶体的配制成分及组分,其特征在于所述的pH值调节剂为碳酸钾,氢氧化钠等。
9.根据权利要求4所述的纳米颗粒胶体的配制成分及组分,其特征在于所述的表面活性剂为两性离子表面活性剂氨基酸型R-NH+2-CH2CH2COO-。
10.根据权利要求1所述的紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的压力发生装置的压力可调范围为0.1-20MPa,纳米颗粒胶体射流经过直径为0.1-2mm的光-液耦合喷嘴后其速度分布范围为2-150m/s。
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