[发明专利]一种适用于印制电子的纳米铜油墨的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210050749.8 申请日: 2012-03-01
公开(公告)号: CN102558954A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 邓吨英;肖斐 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: C09D11/02 分类号: C09D11/02;B22F9/24;B41J2/01;H05K3/12
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 印制 电子 纳米 油墨 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于印制电子技术领域,具体涉及一种适用于印制电子的纳米铜墨水的制备方法。

背景技术

近年来,印制电子技术在射频识别标签、可穿戴电子产品、有机发光二极管和有机太阳能材料的应用上引起极大关注。传统的印制电路工业使用光刻技术,涉及刻蚀、金属沉积和电镀等工艺过程,伴随着大量的有毒化学废弃物的产生。因此,在基板上直接制作电路的喷墨印刷技术得到了广泛关注,喷墨印刷使用低粘度的液相材料油墨,通过一个喷嘴印刷,干燥后形成导电层。对于导电油墨,金属纳米油墨是最有前景的,因为它们能通过溶液的形式印刷到各种基质上,由于尺寸效应,能在较低温度下烧结形成导电薄膜。金、银和铜纳米粒子具有高的导电性(105S/cm)、操作稳定性以及低温过程能力,在导电油墨上有很好的应用前景。然而,金和银比铜贵很多,因而适用于印制电子的铜纳米油墨的制备引起更广泛关注。中国专利200910054884.8公布了一种纳米铜导电墨水的制备方法:它选用不同的还原剂、前驱体、稳定剂以及溶剂,经过电渗析除杂和减压蒸馏,制备得到纳米铜墨水,该发明工艺复杂,而且通过电渗析除杂和减压蒸馏后,铜很容易团聚甚至氧化,从而影响其应用;中国专利200810201967.0以次磷酸纳为还原剂,硫酸铜为前驱体,并且使用LD,PVP为表面活性剂和分散剂,采用液相还原法,在120-160℃下制备了纳米铜导电墨水,该法存在加热温度高,并且加入多种金属盐,同样存在复杂的除杂等过程。

发明内容

本发明的目的在于克服上述纳米铜导电墨水制备工艺中的不足,提供一种工艺简单、成本较低、更为环保的适用于印制电子的纳米铜导电墨水的制备方法。

本发明提出的纳米铜导电油墨的制备方法,具体步骤如下:

将有机铜盐和有机保护剂溶解在溶剂中,在室温下持续搅拌18-25分钟;加入氨水,溶液从蓝变成深蓝紫色,继续搅拌50-60分钟;然后再将还原剂逐滴加入,持续搅拌反应25-35分钟,备用。

本发明中,使用的有机铜盐为醋酸铜、乳酸铜等有机铜的一种或者其混合物。一般地,该有机铜盐对应的酸的分解或者挥发温度低于250℃。

本发明中,使用的还原剂为水合肼,或者为甲醛、乙醛、乙二醛或戊二醛等有机还原剂,还原剂和铜盐的摩尔比为2:1-4:1。一般地,要求还原剂本身及其被氧化后的产物较易分解或者挥发。

本发明中,使用的保护剂为乳酸、乙醇胺、甘氨酸等有机物的一种或者其混合物,所用保护剂和铜盐的摩尔比为1:1-10:1。一般地,要求保护剂分解或挥发温度在250℃以下。

本发明中,使用的溶剂是水,或水和乙醇、乙二醇甲醚等有机溶剂的混合物,所用溶剂的添加量为每0.01mol铜盐对应30-100ml。一般地,要求有机溶剂的沸点低于250℃。

本发明得到的纳米铜粒径小于30nm,将此纳米铜墨水在玻璃片上沉积0.03mm的纳米铜膜,200-250℃惰性气体中烧结后,体积电阻率介于1.0-8.0×10-5Ω·cm之间。

本发明具有以下优点:

(1)本方法不需加热,不需氮气等惰性气体保护,工艺简单,反应时间短。

(2)后处理过程简单,无需除杂等过程,成本降低。

(3)使用水作溶剂,更环保,并且水的表面张力对比其他溶剂更高,更适合喷墨印制电子电路。

(4)纳米铜粒径小于30nm,适合喷墨印制电路。

(5)纳米铜成膜后烧结温度低,导电性良好。 

附图说明

图1为纳米铜粒子的透射电镜照片(TEM)。

图2为纳米铜粒子成膜后的XRD图。

具体实施方式

下面通过实施例进一步描述本发明。

实施例1:将0.01mol醋酸铜溶解在30ml水中,加入2ml乳酸,搅拌溶解后,继续搅拌20分钟,然后加入氨水,溶液从蓝变成深蓝紫色,继续搅拌60分钟,再逐滴加入10ml水合肼,溶液逐渐变成深红色,表示纳米铜生成,持续搅拌反应25分钟后备用。

实施例2:将0.01mol醋酸铜溶解在15ml水和15ml乙醇的混合溶液中,加入2ml乳酸,搅拌溶解后,继续搅拌25分钟,然后加入氨水,溶液从蓝变成深蓝紫色,继续搅拌50分钟,再逐滴加入10ml水合肼,溶液逐渐变成深红色,表示纳米铜生成,持续搅拌反应35分钟后备用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210050749.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top