[发明专利]确定光学测试表面的形状的方法和设备

权利要求书

1.一种确定光学测试表面的形状的方法，包括步骤：

通过适配光学部件使测量光束的波前适配于所述光学测试表面的期望形状，并且通过经适配的测量光束对所述光学测试表面的形状进行干涉测量，

将所述经适配的测量光束以不同入射角辐射到所述光学测试表面上，并且在所述测量光束与所述光学测试表面相互作用之后，分别测量所述测量光束的波前，

根据针对单独入射角所测量的波前，确定所述适配光学部件对干涉测量结果的影响，以及

通过从所述干涉测量结果中移除所确定的适配光学部件的影响，确定所述光学测试表面的形状。

2.根据权利要求1所述的方法，

其中，通过光学分路装置从所述测量光束中分出参考光束，根据针对所述单独入射角所测量的波前，确定所述分路装置对所述干涉测量结果的影响，并且在确定所述光学测试表面的形状时，从所述干涉测量结果中移除所确定的分路装置的影响。

3.根据权利要求1或2所述的方法，

其中，通过评估由探测器照相机记录的干涉图案，执行所述测量光学的波前的测量，所述测量光束的单独光线被分配到所述探测器照相机上的单独测量点，其中，还通过光线追踪，关于所述适配光学部件的至少一个光学表面，提供所述单独光线的穿透点的模拟坐标，作为入射角的函数，并且其中在确定所述适配光学部件对所述干涉测量结果的影响时，考虑所述穿透点的坐标。

4.根据权利要求1或2所述的方法，

其中，通过光线追踪，将所述波前模拟为所述入射角的函数，因此在所述模拟期间考虑的所述适配光学部件的至少一个光学表面对所述波前的贡献是变化的，并且通过将所述模拟结果与所测量的波前进行比较而确定所述至少一个光学表面的贡献，并且其中在确定所述适配光学部件对所述干涉测量结果的影响时，使用所确定的贡献。

5.根据前述任一权利要求所述的方法，其中所述光学测试表面的期望形状是自由形状表面。

6.根据前述任一权利要求所述的方法，其中在辐射所述经适配的测量光束时，所述光学测试表面上的入射角被二维地改变。

7.根据前述任一权利要求所述的方法，其中由用于微光刻的光学元件形成光学测试表面。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述光学元件被构造为EUV反射镜。

9.根据前述任一权利要求所述的方法，其中所述适配光学部件包括衍射光学元件。

10.一种用于确定光学测试表面的形状的设备，包括：

适配光学部件，用于使测量光束的波前适配于所述光学测试表面的期望形状，所述设备被构造为对所述光学测试表面的形状进行干涉测量，

入射角改变装置，用于将所述经适配的测量光束以不同入射角辐射到所述光学测试表面上，以及

评估装置，其被构造为：根据在所述测量光学与所述光学测试表面相互作用之后针对不同入射角所测量的所述测量光束的波前，确定所述适配光学部件对干涉测量结果的影响，并且通过从所述干涉测量结果中移除所确定的适配光学部件的影响，确定所述光学测试表面的形状。

11.根据权利要求10所述的设备，其中所述入射角改变装置包括可调偏转镜。

12.根据权利要求10或11所述的设备，所述设备被构造为执行根据权利要求1至9中任一项所述的方法。