[发明专利]氢氟酸废水处理方法无效

专利信息
申请号: 201210030922.8 申请日: 2012-02-06
公开(公告)号: CN103159342A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 黄龙云;姜东昊;李京植 申请(专利权)人: 诺发光电股份有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 金光军
地址: 韩国忠*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 氢氟酸 废水处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种对玻璃基板等进行蚀刻之后需要废弃处理的氢氟酸的废水处理方法,尤其涉及使用含氢氟酸的蚀刻溶液后将氟浓度从高浓度降低到低浓度而废弃的废水处理方法。

背景技术

制造显示面板等时,用蚀刻溶液对玻璃基板进行蚀刻的工艺使用大量的含高浓度氢氟酸的溶液。因此,蚀刻工艺结束后进行氢氟酸浓度依然高的蚀刻溶液的废弃处理时,需要支付另外的费用而委托给专门回收废水的服务公司,并且如此回收的含氢氟酸的废水与含有其他有害物质的废水混合,会经过废水处理工艺。在玻璃基板的细磨(slimming)工艺或者用于形成图案的蚀刻工艺等工艺中使用后需要处理的废水中,氟离子浓度约为10,000至25,000ppm以上,因此降低氟离子的浓度成为废水处理的核心问题。对于单独处理含高浓度氟离子的废水的方法来说,尚未公开有特别好的方法。处理废水时,对于一同包含氢氟酸等其他有害物质的综合废水,多次反复进行作为物理化学处理的一级处理,该一级处理为用消石灰等中和并过滤淤渣(Sludge)的过程,然后进行诸如生物化学处理或电分解处理等的二级、三级处理。

然而,目前尚未公开有采用单独处理蚀刻工艺中产生的包含高浓度氟离子的废水的物理化学处理方法而能够急剧降低氟离子浓度的技术。如果能够提供这种技术,则可以期待环保效果的同时可以期待降低废水处理费用的效果。

发明内容

鉴于此,本发明的目的在于提供一种对于包含高浓度氟离子的蚀刻后的残留液单独将氟离子浓度转换成极其低的浓度的废水处理方法。

本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,包括:步骤a,在含有氟离子的废水中加入酸和含钙盐;步骤b,加入氢氧化钙;步骤c,与酸一起加入分别包含铁盐或铝盐的助凝剂;步骤d,加入高分子凝结剂。

并且,本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,所述步骤a以及步骤b中,搅拌1至20小时。

并且,本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,还包括步骤e,在所述步骤d之后,过滤生成的淤渣。

并且,本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,在进行过滤的所述步骤e之后,对于残留的废水反复进行步骤a至步骤e。

并且,本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,所述步骤b使废水的pH值达到10以上。

并且,本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,所述步骤c的助凝剂包括:氯化亚铁(FeCl2)、硫酸铝(Al2(SO4)3)、硫酸亚铁(FeSO4)、硫酸铁(Fe2(SO4)3)、氯化铁(FeCl3)、聚氯化铝(PAC,Poly Aluminum Chloride)、铵铝矾(Al(NH4)(SO4)2·12H2O)、铝酸钠(Sodium Aluminate),并且经过步骤c所得的溶液根据步骤c中加入的酸而成为中性。

并且,本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,所述酸为盐酸,所述含钙盐为硝酸钙、氯化钙、硫化钙中的一种,用摩尔比计,所述酸和所述含钙盐的混合比为1∶1。

并且,本发明可以提供一种氢氟酸废水处理方法,其特征在于,所述氢氟酸废水处理方法处理废水中氟离子浓度为10,000ppm以上的废水。

根据本发明,通过单独处理蚀刻工艺后残留的废水而可以将10,000ppm以上的氟离子浓度降低到几百ppm水平,对于如此残留有低浓度的氟离子的废水,可以在后续工艺中通过多种已知的方法很容易地制备出几ppm至几十ppm水平的溶液,因此环保效果非常大。

并且,根据本发明,还可以大幅减轻进行蚀刻工艺的工厂的环境有害性,并且可以降低废水处理所需的费用。

附图说明

图1为表示本发明的优选实施例的流程图。

图2a至图2d为表示本发明的优选实施例的概略性的示意图。

具体实施方式

以下,参照附图详细说明根据本发明的优选实施例。

图1为表示本发明的实施例的整个流程的流程图。

本发明的目的在于,去除对于玻璃基板进行细磨工艺、图案形成工艺等工艺之后产生的蚀刻废水中残留的高浓度的氟离子。主要的工艺在于,利用氟离子(F-)的沉淀反应制成淤渣,经过过滤去除。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺发光电股份有限公司,未经诺发光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210030922.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top