[发明专利]光记录再现方法及装置、光记录介质及其制造方法

权利要求书

1.一种光记录再现方法，对光记录介质中的记录再现层进行信息记录，

所述光记录介质具有：

所述记录再现层，是预先层叠而成或事后形成的，并不具有循轨控制用凹凸，

伺服层，形成有循轨控制用凹凸或沟槽；

所述光记录再现方法的特征在于，

一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录。

2.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，

所述光记录介质具有多层所述记录再现层，

所述光记录再现方法包括：

伺服层利用步骤，一边利用所述伺服层来进行循轨，一边对所述记录再现层进行信息记录；

已记录区域利用步骤，一边利用所述记录再现层上的已记录信息区域来进行循轨，一边对其他所述记录再现层进行信息记录。

3.如权利要求2所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述已记录区域利用步骤中，对与提供所述已记录区域的所述记录再现层相邻的所述记录再现层进行信息记录。

4.如权利要求2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述伺服层利用步骤中，对与所述伺服层相邻的所述记录再现层进行信息记录。

5.如权利要求2所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述伺服层利用步骤中，持续进行记录动作，直到对所述记录再现层的所有数据区域都结束信息记录为止，

在所述已记录区域利用步骤中，利用在所述伺服层利用步骤中的所述记录再现层上的所述已记录区域，对其他所述记录再现层进行信息记录。

6.如权利要求5所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述伺服层利用步骤中，持续进行记录动作，直到对其他所述记录再现层的所有数据区域都结束信息记录为止，然后，利用其他所述记录再现层上的所述已记录区域，来对下一个所述记录再现层进行信息记录。

7.如权利要求2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述伺服层利用步骤中，照射至所述伺服层上的循轨用光束的波长与照射至所述记录再现层上的记录用光束的波长大致相同，

所述伺服层具有能够利用所述循轨用光束或所述记录用光束来进行信息记录的记录再现膜。

8.如权利要求1或2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述光记录介质中，配置在所述伺服层和最靠近该伺服层的所述记录再现层之间的缓冲层的厚度，与在配置于多层所述记录再现层之间的多层中间层中的某一中间层的厚度大致相同。

9.如权利要求8所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述光记录介质中，多层所述中间层的厚度设定为两种以下。

10.如权利要求1或2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述光记录介质中，所述伺服层配置在比多层所述记录再现层更远离光入射面的位置。

11.如权利要求1或2或3所述的光记录再现方法，其特征在于，

在所述光记录介质中，所述伺服层配置在比多层所述记录再现层更靠近光入射面的位置。

12.如权利要求1所述的光记录再现方法，其特征在于，

一边将第一波长的循轨用光束照射至所述伺服层来进行循轨控制，一边将比所述第一波长短的第二波长的记录再现用光束照射至所述记录再现层来进行信息记录或再现，

使所述记录再现用光束的所述第二波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率，比使所述循轨用光束的所述第一波长的光透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时的所述伺服层的反射率更低。

13.如权利要求12所述的光记录再现方法，其特征在于，

使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时来自所述伺服层的反射光量，是使所述记录再现用光束照射至所述记录再现层时来自所述记录再现层的反射光量的5倍以下。

14.如权利要求13所述的光记录再现方法，其特征在于，

使所述记录再现用光束透过所述记录再现层而照射至所述伺服层时来自所述伺服层的反射光量，比使所述记录再现用光束照射至所述记录再现层时来自所述记录再现层的反射光量更少