[发明专利]一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法

权利要求书

1.一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法，由光学透明薄膜，防窥层、防眩光耐刮花层和粘贴层组成，其特征是先在PET基材上表面涂布防眩耐刮花层，在PET下表面通过网纹辊轮涂布一层特殊底涂，然后通过模具制备百超微叶窗结构防窥层，接着在防窥层表面涂一层高粘接性能的光学级亚克力胶水，然后覆上PET基材，并在PET基材的另一面涂布一层硅胶，厚度为3-20μm使其成为粘贴层，总厚300±100μm，可视角度60±5°，百叶窗角度0±3°，表面硬度4H铅笔硬度，无明显条纹，可重复粘贴。

2.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护贴制备方法，其特征在于折射率应该保持在1.5-1.7之间，透光率80-98％，雾度为0.8％-20％，厚度为25-200μm。

3.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法，其特征在于所述防眩光耐刮花层具有防眩光耐刮花性能，是选用具有耐刮花性能的UV光照射固化型树脂通过结构辊轮在PET上表面涂布形成平均直径1-5μm、透光率为88％、雾度为12％的凹凸面制备而成。

4.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法，其特征在于在PET下表面通过网纹辊轮涂布一层50-200nm厚的特殊底涂，形成粘贴层，以备与硅胶更好地贴合。

5.由权利要求4所述的一种特殊底涂，其特征在于该底涂是一种双官能团低聚物，经稀释分散后能轻易地在PET基材上形成纳米级涂层，因其双官能团特性与PET和硅胶均有优异的接着性，使硅胶能很好地与PET粘接在一起。

6.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法，其特征在于防窥层的结构为超微百叶窗结构，该结构是通过预制模具，由光学级高透光率低温硫化型硅胶浇注在模具里，在60-200℃温度下硫化制备而成的，透光率为75-95％，形成了高透光带。

7.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法，其特征在于涂有特殊底涂的PET与超微百叶窗结构上表面贴合后再进行加硫固化。

8.由权利要求6所述的超微百页窗结构，其特征在于百叶窗结构加硫固化脱模后，通过刮刀涂布方式用低透光率硅胶填充百叶窗结构的缝隙，形成了低透光带，透光率为5-50％。

9.由权利要求8所述的低透光率硅胶，其特征在于是将一种纳米高吸光粒子与硅胶混合均匀，其中纳米高吸光粒子可以是有机或无机材料，要求粒子表面粗糙，平均分布后不导电，可以是有色或无色。

10.由权利要求1所述的一种新型超薄纳米防窥保护膜制备方法，其特征在于防窥层百叶窗结构制备完成后在其下表面涂一层高粘接性能的光学级亚克力胶水，然后覆上PET基材，并在PET基材的另一面涂布一层硅胶，厚度为3-20μm，使其成为粘贴层。

11.由权利要求6所述的超微百叶窗结构，其特征在于经理论推算及中试验证得知百叶窗结构的角度为00±3，高透光带厚为20-100μm，低透光带厚为1-50μm，高为50-300时，可视角度最佳，为60±5°。